Ivoclar Vivadent Telio CS Cem Implant User Manual [en, de, fr, it, es, pl]

Download

Telio®CS Cem Implant

Brugsanvisning Käyttöohjeet Bruksanvisning Productinformatie

Oδηγίεσ Xρήσεωσ

Kullanım Bilgileri

àÌÒÚÛÍˆËﬂ

Instrukcja stosowania

– Selvhærdende resincement med mulighed for

lyshærdning til provisorisk reversibel/semipermanent cementering af restaureringer på implantatabutments.

– Kemialliskovetteinen ja tarvittaessa

valokovetettava yhdistelmämuovisementti, joka on tarkoitettu tilapäiseen palautuvaan/ semipermanenttiin kiinnittämiseen implanttiabutmentteihin.

– Selvherdende harpikssement med lysherdings-

alternativ til midlertidig reversibel/halvpermanent sementering av restaureringer på implantatabutments.

– Zelfuithardend composietcement, met de

optie van lichtuitharding, voor tijdelijke, reversibele/semipermanente bevestiging van restauraties op implantaatabutments

–

Αυτoπoλυµεριζµενη ρητινώδησ κoνία µε επιλoγή φωτoπoλυµερισµoύ για την προσωρινή, αναστρέψιµη/ηµιµνιµη στερέωση απoκαταστάσεων σε κoλoβώµατα εµφυτευµάτων.

– ‹mplant abutmentleri üzerine geçici, reversibl/

yarı kalıcı simantasyon yapmak amacıyla kullanılan, kendili¤inden ve opsiyonel olarak ıﬂıkla sertleﬂen kompozit siman

– ˆВПВМЪ ıЛПЛ˜ВТНУ„У УЪ‚ВК‰ВМЛﬂ Т УФˆЛУ-

М‡О¸МУИ ‚УБПУКМУТЪ¸˛ Т‚ВЪУ‚УИ ФУОЛПВЛБ‡ˆЛЛ ‰Оﬂ ‚ВПВММУ-‰УО„У‚ВПВММУИ ЩЛНТ‡ˆЛЛ М‡ ‡·‡ЪПВМЪ‡ı ЛПФО‡МЪУ‚

– Cement kompozytowy o podwójnym

mechanizmie polimeryzacji, (chemoi Êwiatłoutwardzalny), przeznaczony do długotrwałego czasowego cementowania uzupełnieƒ protetycznych na łàcznikach implantów

For dental use only. Caution: U.S. Federal law restricts this device to sale by or on the order of a licensed dentist.

Made in Liechtenstein Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

Instructions for Use Gebrauchsinformation Mode d’emploi Istruzioni d’uso Instrucciones de uso Instruções de Uso Bruksanvisning

– Self-curing resin cement with light-

curing option for the temporary, reversible/semi-permanent cementation of restorations on implant abutments.

– Selbsthärtender Compositezement mit

optionaler Lichthärtung zur temporären reversiblen/semipermanenten Befestigung auf Implantat-Abutments

– Colle autopolymérisante, à photopoly-

mérisation optionnelle, pour l’assemblage temporaire réversible/semi-permanent sur les piliers d’implants.

– Cemento composito autoindurente con

fotopolimerizzazione opzionale per la cementazione temporanea reversibile/ semi-permanente di restauri su abutment per impianti.

– Cemento de composite autopolimeriza-

ble con fotopolimerización opcional para fijación reversible temporal/semipermanente en pilares de implantes

– Compósito autopolimerizável, com

opção fotopolimerizável, para cimentação temporária e reversível ou semi-permanente de restaurações sobre pilares de implantes.

– Självhärdande kompositcement med

ljushärdningsmöjlighet avsett för temporär, reversibel/semipermanent cementering på implantatdistanser

English

Instructions for Use

Description

Telio®CS Cem Implant is a radiopaque, self-curing resin cement with lightcuring option for the esthetic, temporary, reversible / semi-permanent cementation of restorations on implant abutments. Telio CS Cem Implant is suitable for long-term temporary restorations that are metal-supported (e.g. Telio Lab) and metal-free (e.g. Telio CAD) as well as for permanent crowns and bridges (metal-supported, zirconium oxide-supported). Telio CS Cem Implant has been designed to remain in the mouth for 6 months and more.

Shades

Transparent, Opaque

Composition

Telio CS Cem Implant is composed of bismethacrylates (approx. 52 %wt.) and fillers (approx. 46 %wt.). Initiators, stabilizers, auxiliaries and pigments are additional components.

Indications

Reversible / semi-permanent cementation of long-term temporary and permanent restorations on implant abutments.

Contraindication

The use of Telio CS Cem Implant is contraindicated if a patient is known to be allergic to any of the ingredients of Telio CS Cem Implant – Application to natural tooth structure – Unsuitable abutment design – The abutment design should meet the following requirements:

– No parallel-walled preparation of the abutment – Conventional retentive shape.

Side effects

In rare cases, components of Telio CS Cem Implant may cause a sensitizing reaction in patients with a hypersensitivity to any of the material’s ingredients. Telio CS Cem Implant should not be used in such cases.

Interactions

Phenolic substances (e.g. eugenol) inhibit polymerization. Consequently, the application of materials which contain these substances should be avoided.

638641/0911/WE3/H

Usage

1) Remove the cap of the double-push syringe by a ¼ rotation counter clockwise (throw away cap, do not use again!) and replace it with a mixing tip. If the double-push syringe has been used before, mount a new mixing tip directly before the application of Telio CS Cem Implant.

2) When attaching the mixing tip to the syringe, make sure that the guidance of the double-push syringe is aligned with that of the mixing tip. Push the tip completely down until the notch on the mixing tip is

ligned with that of the double-push syringe. Secure the mixing tip in

a place by gripping the coloured base and turning 1/4 turn clockwise. The double-push syringe contains pre-dosed amounts of Telio CS Cem Implant base and catalyst which are automatically mixed and dispensed when the two components are extruded. Thus, Telio CS Cem Implant can be applied directly into the restoration.

3) Apply Telio CS Cem Implant to the clean and dry inner surfaces of the restoration. The surfaces must be free of oil and dust at all times. The working time at room temperature (23 °C / 73 °F) is approx. 2.5 to 3 minutes.

4) Placement of the restoration and removal of excess cement:

Seat the temporary restoration on the abutment(s) with light pressure. Excess cement can be removed using different methods:

4a) Removal of excess with additional light-activation

(quarter technique):

Light-cure excess material with a polymerization light (approx.

, e.g. bluephase in the LOW mode) for 2 – 4 seconds

650 mW/cm per quarter surface (mesio-oral, disto-oral, mesio-buccal, disto-buccal) at a distance of approx. 0 – 10 mm. Following this procedure, the excess material can be easily removed with an implant scaler, as it features a viscoplastic consistency. Subsequently, light-cure all margins again for 10 seconds (>1000 mW/cm the HIGH mode). The usage of glycerine gel (e.g. Liquid Strip) is recommended to prevent the inhibition layer.

4b) Removal of excess in the unpolymerized state:

Remove uncured excess material immediately after seating, using a microbrush / brush / foam pellet / dental floss or implant scaler. Subsequently, wait until the self-curing process is finished (approx. 2 min), or accelerate the polymerization process by light-curing the cement layer with a curing light (>1000 mW/cm2; e.g. bluephase in the HIGH mode) for 10 seconds per surface.

4c) Removal of excess in the polymerized state:

Approx. 3 minutes after having seated the restoration, remove excess material carefully with an implant scaler or other instruments.

Leave the used mixing tip on the syringe as a cap until the next application.

Notes

– Due to various factors influencing the result when restorations are

cemented on implant abutments (e.g. abutment height and dimensions, surface texture, fit of the restoration, etc.), premature debonding may occur or a very strong bond between the abutment and the restoration may be established. If premature debonding occurs, adhesion can be improved by roughening the restoration and abutment surfaces. Treatment of the abutment always has to be performed outside the mouth.

Zirconium oxide

Sandblast the surfaces (parameters according to the instructions of the manufacturer).

Metal or metal-supported restorations

Sandblast the restoration surface (parameters according to the instructions of the manufacturer) until an even matt surface has been achieved.

; e.g. bluephase in

esin-based (Telio CAD / Telio Lab) restorations

Sandblast the inner restoration surfaces (parameters according to the instructions of the manufacturer. For Telio Lab / Telio CAD use Al 100µm, at 1 – 2 bar (15 – 29 psi) pressure.

Following surface treatment, thoroughly rinse the restorations and abutments with water spray and dry with oil-free air. If necessary, clean the restoration in an ultrasonic unit for about one minute.

– If the restoration cannot be removed with conventional methods,

access to the screw channel is created by means of trepanation.

– Extruding material without the mixing tip in place may result in a

cross-contamination of the Telio CS Cem Implant components.

– Like all other composites, Telio CS Cem Implant is subject to oxygen

inhibition. Therefore, the setting time of the cement when mixed on a mixing pad outside the mouth cannot be taken as a reference for the intraoral setting behaviour.

Warning

– Contact of the uncured material with the skin, mucous membrane or

eyes must be avoided. Unpolymerized Telio CS Cem Implant may cause slight irritation and in very rare cases, sensitization may occur if the skin is exposed repeatedly.

– Commercial medical gloves do not provide protection against the sen-

sitizing effect of methacrylates.

Working time

At room temperature (23 °C / 73 °F) approx. 2.5 – 3 minutes, intraorally at body temperature (37 °C / 98 °F) approx. 1.5 – 2 minutes.

Setting time

Self-curing: At body temperature (37 °C / 98 °F) approx. 3 minutes. Exposure to light from a light-curing unit will accelerate the polymerization process.

Storage

Shelf life: see expiry date on label/packaging – Do not use after the indicated date of expiration. – Store at 2 – 8 °C / 36 – 46 ºF – Use only at room temperature (cooled material is more viscous and

takes longer to cure).

Keep out of the reach of children! For use in dentistry only!

2O3

Date information prepared: 09/2011, Rev. 0

Manufacturer

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

The product has been developed solely for use in dentistry. Processing should be carried out strictly according to the Instructions for Use. Liability cannot be accepted for damages resulting from failure to observe the Instructions or the stipulated area of application. The user is responsible for testing the products for their suitability and use for any purpose not explicitly stated in the Instructions. Descriptions and data constitute no warranty of attributes.

Telio®CS Cem Implant

Deutsch

Gebrauchsinformation

Beschreibung

Telio®CS Cem Implant ist ein röntgenopaker, selbsthärtender Compositezement mit optionaler Lichthärtung zur ästhetischen, temporären, reversiblen / semi-permanenten Befestigung auf Implantat-Abutments. Telio CS Cem Implant kann für die Zementierung von Metall-unterstützten (z.B. Telio Lab) und Metallfreien (z.B. Telio CAD) Langzeitprovisorien, sowie für die Zementierung von definitiven Kronen und Brücken (Metall-, Zirkoniumoxidunterstützt) verwendet werden. Telio CS Cem Implant wurde für eine Tragezeit von 6 Monaten und länger entwickelt.

Farben

Transparent, Opak

Zusammensetzung

Telio CS Cem Implant besteht aus Bismethacrylaten (ca. 52 Gew.%) und Füllstoffen (ca. 46 Gew.%). Zusätzlich enthalten sind Initiatoren, Stabilisatoren, Hilfsstoffe und Pigmente.

Indikationen

Reversible / semi-permanente Eingliederung langzeitprovisorischer und definitiver Restaurationen auf Implantat-Abutments.

Kontraindikation

Bei bekannter Allergie auf Inhaltsstoffe von Telio CS Cem Implant ist auf dessen Anwendung zu verzichten. – Anwendung auf natürlichen Stümpfen – ungeeignetes Abutment-Design – An das Abutment-Design werden folgende Anforderungen gestellt:

– keine parallelwandige Abutment-Präparation – konventionelle retentive Form

Nebenwirkungen

Bestandteile von Telio CS Cem Implant können in seltenen Fällen bei prädisponierten Personen zu einer Sensibilisierung führen. In diesen Fällen ist auf die weitere Verwendung zu verzichten.

Wechselwirkungen

Phenolische Substanzen (z.B. Eugenol) inhibieren die Polymerisation. Daher sollten Produkte, die diese Komponenten enthalten, nicht verwendet werden.

nwendung

1) Der Verschluss der Doppelschubspritze wird durch eine 1/4-Drehung entgegen dem Uhrzeigersinn entfernt (Verschluss wegwerfen, nicht wieder verwenden!) und durch eine Mischkanüle ersetzt. Bei bereits verwendeter Doppelschubspritze erst unmittelbar vor dem Ausbringen von Telio CS Cem Implant eine neue Mischkanüle aufsetzen.

2) Beim Aufsetzen der Mischkanüle ist zu beachten, dass die Führungen an der Doppelkammerspritze und der Mischkanüle übereinstimmen. Dabei die Kanüle ganz nach unten schieben, bis die Einkerbung auf Mischkanüle und Doppelschubspritze aufeinander treffen. Die farbige Basis fassen und die Kanüle mit einer 1/4-Drehung im Uhrzeigersinn fixieren. Telio CS Cem Implant Basis- und Katalysatorpaste sind in der Doppelkammerspritze gebrauchsfertig dosiert und werden beim Ausbringen in der Kanüle gemischt. Telio CS Cem Implant kann so direkt in die zu zementierende Restauration appliziert werden.

3) Telio CS Cem Implant wird auf die sauberen und trockenen Innenflächen der zu zementierenden Restauration appliziert. Die Oberflächen müssen stets öl- und staubfrei sein. Die Verarbeitungszeit beträgt bei Raumtemperatur (23°C) ca. 2.5 bis 3 Minuten.

4) Einsetzen der Restauration und Entfernung von überschüssigem Zement:

Restauration mit leichtem Druck auf das / die Abutment(s) eingliedern. Die Überschussentfernung kann durch verschiedene Methoden erfolgen:

4a) Überschussentfernung mit zusätzlicher Lichthärtung (Viertel-

technik):

Den Zementüberschuss mittels Polymerisationsgerät (ca. 650 mW/cm z.B. bluephase im LOW-Modus) im Abstand von ca. 0 – 10 mm für 2 – 4 Sekunden pro Viertelseite (mesiooral, distooral, mesiobukkal, distobukkal) lichtaktivieren. Die Entfernung mit einem ImplantatScaler ist dadurch leicht im zähplastischen Zustand möglich. Danach alle Ränder nochmals für 10 Sekunden mit Polymerisationsgerät belichten (>1000mW/cm Modus). Zur Vermeidung der Inhibitionsschicht wird die Verwendung von Glyzeringel (z.B. Liquid Strip) empfohlen.

4b) Überschussentfernung im unausgehärteten Zustand:

Den Zementüberschuss unmittelbar nach Eingliederung mittels Microbrush / Pinsel / Schaumstoffpellet / Zahnseide oder Implantat-Scaler im unausgehärteten Zustand entfernen. Anschliessend wird der rein selbsthärtende Abbindeprozess abgewartet (ca. 2 Minuten) oder optional durch Lichtpolymerisation für 10 Sekunden pro Fläche (>1000mW/cm beschleunigt.

4c) Überschussentfernung im ausgehärteten Zustand:

Den Zementüberschuss nach ca. 3 Minuten sorgfältig mit einem Implantat-Scaler oder anderen Instrumenten entfernen.

Die benutzte Mischkanüle bis zum nächsten Gebrauch als Verschluss auf der Spritze lassen!

Hinweise

– Auf Grund der zahlreichen Einflussfaktoren bei der Befestigung von

Restaurationen auf Implantat-Abutments (z.B. Abutment-Höhe und Geometrie, Oberflächenbeschaffenheit, Passung der Restauration etc.)

; z.B. bluephase im HIGH-

; z.B. bluephase im HIGH-Modus)

ann es zum vorzeitigen Lösen der Restauration bzw. zu einem zu star-

k ken Verbund zwischen Abutment und Restauration kommen. Beim vorzeitigen Lösen kann durch Erhöhung der Rauigkeit der Restaurations- und Abutment-Oberflächen der Verbund verbessert werden. Die Abutmentbehandlung hat stets extraoral stattzufinden.

Zirkoniumoxid

Abstrahlen der Oberfläche (Strahlparameter gemäß Angaben des Herstellers.)

Metall- bzw. metallgestützte Restaurationen

Abstrahlen der Oberfläche (Strahlparameter gemäß Angaben des Herstellers) bis eine gleichmäßig matte Oberfläche erreicht ist.

Kunststoffbasierte (Telio Lab / Telio CAD) Restaurationen

Abstrahlen der inneren Restaurationsoberfläche (Strahlparameter gemäß Angaben des Herstellers. Bei Telio Lab / Telio CAD 1-2 bar,

)

100µm Al

2O3

Nach der Oberflächenbehandlung die Restaurationen und Abutments stets mit Wasserspray gründlich abspülen und mit ölfreier Luft trocknen. Ggf. Reinigung in einer Ultraschalleinheit für etwa 1 Minute.

– Kann die Restauration nicht mit konventionellen Mitteln entfernt wer-

den, erfolgt der Zugang zum Schraubenkanal durch Trepanation.

– Es kann zur Kreuzkontamination von Telio CS Cem Implant kommen,

wenn eine Materialentnahme ohne Mischkanülen erfolgt.

– Telio CS Cem Implant unterliegt wie alle Composites der Sauerstoff-

inhibierung. Deshalb ist eine Anmischung auf dem Misch-Pad ausserhalb des Mundes keine Referenz für die intraorale Aushärtung.

Warnhinweise

– Kontakt von unausgehärtetem Material mit Haut/Schleimhaut und

Augen vermeiden. Telio CS Cem Implant kann in unausgehärtetem Zustand leicht reizend wirken und bei wiederholtem Hautkontakt in seltenen Fällen zu einer Sensibilisierung führen.

– Handelsübliche medizinische Handschuhe bieten keinen Schutz gegen

den sensibilisierenden Effekt von Methacrylaten.

Verarbeitungszeit

Bei Raumtemperatur (23 °C) ca. 2,5 – 3 Minuten, intraoral bei Körpertemperatur (37 °C) ca. 1,5 – 2 Minuten.

Aushärtezeit

Selbsthärtend: Bei Körpertemperatur (37 °C) ca. 3 Minuten Das Bestrahlen mit einer Polymerisationslampe beschleunigt den Aushärtungsprozess.

Lager- und Aufbewahrungshinweise

– Haltbarkeit siehe Ablaufdatum auf Etikett/ Verpackung – Nach Ablauf des Verfallsdatums nicht mehr verwenden. – Lagerung bei 2 – 8°C – Nur bei Zimmertemperatur verarbeiten (gekühltes Material ist viskoser

und härtet langsamer aus).

ür Kinder unzugänglich aufbewahren!

F Nur für zahnärztlichen Gebrauch!

Erstellungsdatum der Gebrauchsinformation:

9/2011, Rev. 0

Hersteller

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/ Liechtenstein

Das Produkt wurde für den Einsatz im Dentalbereich entwickelt und muss gemäss Gebrauchsinformation verarbeitet werden. Für Schäden, die sich aus anderweitiger Verwendung oder nicht sachgemässer Verarbeitung ergeben, übernimmt der Hersteller keine Haftung. Darüber hinaus ist der Verwender verpflichtet, das Produkt eigenverantwortlich vor dessen Einsatz auf Eignung und Verwendungsmöglichkeit für die vorgesehenen Zwecke zu prüfen, zumal wenn diese Zwecke nicht in der Gebrauchsinformation aufgeführt sind.

Telio®CS Cem Implant

Français

Mode d’emploi

Description

Telio®CS Cem Implant est une colle radio-opaque, autopolymérisante, à photopolymérisation optionnelle, pour l’assemblage esthétique, temporaire, réversible / semi-permanent sur les piliers implantaires. Telio CS Cem Implant peut être utilisé pour le collage des restaurations provisoires de longue durée soutenues par une armature métallique (ex. Telio Lab) et sans métal (ex. Telio CAD), ainsi que pour le collage des couronnes et des bridges définitifs (soutenus par une armature en métal ou en oxyde de zirconium) sur piliers implantaires. Telio CS Cem Implant a été conçu pour rester 6 mois et plus en bouche.

Teinte

Transparent, opaque

Composition

Telio CS Cem Implant se compose de diméthacrylates (env. 52% en poids) et de charges (env. 46% en poids). Le produit contient en plus des initiateurs, des stabilisateurs et des pigments.

Indications

Fixation réversible / semi-permanente des restaurations provisoires de longue durée et définitives sur les piliers d’implants.

Contre-indications

Telio CS Cem Implant ne doit pas être utilisé en cas d’allergie connue à l’un de ses composants. – Application du produit sur les moignons naturels. – Conception du pilier inadaptée. – La conception du pilier doit répondre aux critères suivants :

– pas de préparation du pilier à parois parallèles – forme rétentive conventionnelle

Effets indésirables

Dans de rares cas, les composants de Telio CS Cem Implant peuvent provoquer des sensibilités chez les personnes prédisposées. Dans ce cas, le produit ne doit plus être utilisé.

Interactions

Les substances phénoliques (ex. Eugénol) inhibent la polymérisation. L’emploi de matériaux contenant ces substances est donc à éviter.

pplication

1) Retirer le bouchon de la double seringue en le tournant d’un 1/4 de tour dans le sens inverse des aiguilles d’une montre (jeter le bouchon, ne pas le réutiliser !) et le remplacer par une canule de mélange. Si la double seringue a déjà été utilisée, remplacer la canule de mélange usagée par une nouvelle juste avant d’utiliser Telio CS Cem Implant.

2) En fixant la canule de mélange sur la seringue, s’assurer que le repère sur la seringue est aligné avec celui de la canule de mélange. Pour cela, pousser la canule à fond vers le bas, jusqu’à ce que le repère de la canule de mélange et celui de la double seringue coïncident. Bloquer la canule de mélange en tournant la base de couleur d’1/4 de tour dans le sens des aiguilles d’une montre. La double seringue contient des quantités prédosées de Telio CS Cem Implant base et catalyseur, qui sont automatiquement mélangées dans la canule lorsque les composants sont expulsés. Telio CS Cem Implant peut ainsi être appliqué directement sur la restauration à cimenter.

3) Répartir une couche de Telio CS Cem Implant sur les intrados propres et secs de la restauration à assembler. Les surfaces doivent toujours être dégraissées et dépoussiérées. Le temps de travail est d’environ 2,5 à 3 minutes à température ambiante (23 °C).

4) Mise en place de la restauration et élimination des excédents de colle :

Insérer la restauration en appliquant une légère pression sur le ou les pilier(s). Les excédents peuvent être éliminés selon diverses méthodes :

4a) Élimination des excédents par une photopolymérisation

supplémentaire (technique de quart)

Initier la prise des excédents à l’aide d’une lampe à polymériser (d’une intensité lumineuse d’environ 650 mW/cm bluephase en mode LOW) à une distance d’environ 10 mm pendant 2 à 4 secondes par quart de surface (mesio-oral, disto-oral, mesio-buccal, disto-buccal). Les excédents peuvent être ensuite facilement éliminés à l’aide d’un excavateur puisqu’ils présentent une consistance visco élastique. Photopolymériser ensuite à nouveau toutes les faces pendant 10 secondes à l’aide de la lampe à polymériser (intensité lumineuse > 1 000 mW/cm bluephase en mode HIGH). Il est conseillé d’utiliser un gel de glycérine (tel que Liquid Strip), afin d’empêcher la formation de la couche d’inhibition.

4b) Élimination des excédents au stade non polymérisé

Éliminer les excédents de colle non polymérisés immédiatement après l’insertion en utilisant une microbrosse, une brosse, une boule en mousse, du fil dentaire ou un excavateur. Attendre ensuite que le processus d’autopolymérisation soit terminé (après environ 2 minutes) ou accélérer le processus de polymérisation en photopolymérisant la colle avec une lampe à polymériser (intensité lumineuse > 1 000 mW/cm 10 secondes par face.

4c) Élimination des excédents au stade polymérisé

Environ 3 minutes après avoir mis la restauration en place, éliminer soigneusement les excédents à l’aide d’un excavateur ou de tout autre instrument approprié.

, ex. bluephase en mode HIGH) pendant

, par exemple

; par exemple

aisser la canule de mélange usagée sur la seringue. Elle servira de

L bouchon jusqu’à la prochaine utilisation !

Recommandations

– Les nombreux facteurs influençant la fixation des restaurations sur les

piliers d’implants (la hauteur et les dimensions du pilier, la texture des surfaces, l’adaptation de la restauration, etc.) peuvent conduire aussi bien au détachement prématuré de la restauration qu’à l’apparition d’un lien solide entre le pilier et la restauration.

En cas de détachement prématuré, ce lien peut être renforcé par une rugosité accrue de la surface de la restauration et de celle du pilier. Le traitement du pilier doit toujours s’effectuer à l’extérieur de la bouche.

Oxyde de zirconium

Sablage de la surface (paramètres de sablage selon les indications du fabricant)

Restaurations métalliques ou soutenues par une armature métallique

Sablage de la surface (paramètres de sablage selon les indications du fabricant) jusqu’à obtenir une surface mate uniforme.

Restaurations à base de matériaux composites (Telio Lab / Telio CAD)

Sablage des surfaces internes de la restauration (paramètres de sablage selon les indications du fabricant. Pour ce qui est de Telio Lab / Telio CAD, 1 à 2 bars, 100µm Al

Après le traitement de la surface, toujours rincer soigneusement à l’eau les restaurations et les piliers, puis les sécher à l’air. Si nécessaire, nettoyer la restauration aux ultrasons pendant env. 1 minute.

– Si la restauration ne peut pas être retirée par les moyens convention-

nels, l’accès au canal de la vis s’effectue par une trépanation.

– Expulser le matériau sans avoir placé la canule de mélange peut provo-

quer une contamination croisée des composants de Telio CS Cem Implant.

– Comme tous les composites, Telio CS Cem Implant est sujet à l’inhibi-

tion par l’oxygène. Son comportement, lorsqu’il est mélangé sur une plaque de mélange en dehors de la bouche, ne peut donc pas être pris comme référence pour le comparer à la prise en bouche.

Précautions d’emploi

– Ne pas mettre le matériau non polymérisé en contact avec la peau, les

muqueuses et les yeux. Telio CS Cem Implant non polymérisé peut provoquer de légères irritations et, dans de très rares cas, une sensibilité si la peau est exposée de manière répétée.

– Les gants médicaux du commerce ne protègent pas contre une sensibi-

lité aux méthacrylates.

Temps de travail

Environ 2 à 3 minutes à température ambiante (23 °C), env. 1 à 2 minutes en utilisation intraorale à température corporelle (37 °C).

)

2O3

emps de prise

Autopolymérisant : environ 3 minutes à température corporelle (37 °C) Une exposition à la lumière accélère le processus de polymérisation.

Conditions de stockage

– Validité : voir la date de péremption sur l’étiquette ou sur l’emballage – Ne pas utiliser Telio CS Cem Implant au-delà de la date de péremption. – Température de stockage : 2 à 8°C – Utiliser Telio CS Cem Implant uniquement à température ambiante (un

matériau trop froid est plus visqueux et son temps de polymérisation plus long).

Ne pas laisser à la portée des enfants ! Réservé à l’usage exclusif du chirurgien-dentiste !

Date de réalisation du mode d'emploi : 09/2011, Rev. 0

Fabricant

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

Ce matériau a été développé en vue d'une utilisation dans le domaine dentaire et doit être mis en œuvre selon le mode d'emploi. Les dommages résultant du non respect de ces prescriptions ou d'une utilisation à d'autres fins que celles indiquées n'engagent pas la responsabilité du fabricant. L'utilisateur est tenu de vérifier sous sa propre responsabilité l'appropriation du matériau à l'utilisation prévue, et ce d'autant plus si celle-ci n'est pas citée dans le mode d'emploi.

Telio®CS Cem Implant

Italiano

Istruzioni d’uso

Descrizione

Telio®CS Cem Implant è un cemento composito autoindurente radiopaco con fotopolimerizzazione opzionale per la cementazione estetica temporanea, reversibile o semi-permanente, di restauri su abutment per impianti. Telio CS Cem Implant è idoneo sia per restauri provvisori a lungo termine supportati da metallo (per es. Telio Lab) ed esenti da metallo (per es. Telio CAD), che per corone e ponti permanenti (supportati da metallo o da ossido di zirconio). Telio CS Cem Implant è stato sviluppato per una permanenza in bocca di 6 mesi e oltre.

Colori

Trasparente, opaco

Composizione

Telio CS Cem Implant è composto da dimetacrilati (52 % circa in peso) e riempitivi (46 % circa in peso). Vi sono inoltre contenuti iniziatori, stabilizzatori, adiuvanti e pigmenti.

Indicazioni

Cementazione reversibile o semi-permanente di restauri provvisori a lungo termine e permanenti su abutment per impianti.

Controindicazioni

L'impiego di Telio CS Cem Implant è controindicato – Nei casi di allergia nota del paziente a uno degli ingredienti di Telio CS

Cem Implant – Applicazione alla struttura naturale di un dente – Geometria non idonea dell'abutment. La geometria dell'abutment deve

rispondere ai seguenti requisiti:

– Abutment non preparato a pareti parallele

– Forma ritentiva convenzionale.

Effetti collaterali

In rari casi, i componenti di Telio CS Cem Implant possono indurre una reazione di sensibilizzazione in pazienti con ipersensibilità ad uno degli ingredienti del materiale. In tal caso, non utilizzare Telio CS Cem Implant.

Interazioni

Le sostanze fenoliche (per es. eugenolo) inibiscono la polimerizzazione. Di conseguenza, evitare l'applicazione di materiali contenenti queste sostanze.

pplicazione

1) Rimuovere il cappuccio della doppia siringa con un ¼ di giro in senso antiorario (gettare il cappuccio, non riutilizzarlo!) e sostituirlo con un puntale di miscelazione. Se la doppia siringa è già stata utilizzata in precedenza, applicare un nuovo puntale di miscelazione soltanto poco prima dell'applicazione Telio CS Cem Implant.

2) Quando si inserisce il puntale di miscelazione sulla siringa, fare attenzione che le guide della doppia siringa siano perfettamente allineate con quelle del puntale. Spingere il puntale completamente verso il basso finché l'intaccatura del puntale di miscelazione non risulti perfettamente allineata con quella della doppia siringa. Inserire saldamente il puntale afferrandone la base colorata e ruotandola di 1/4 di giro in senso orario. La doppia siringa contiene un quantitativo predosato di Telio CS Cem Implant base e catalizzatore, che vengono miscelati automaticamente ed erogati nella fase di estrusione dei due componenti. In questo modo si può applicare Telio CS Cem Implant direttamente nel restauro.

3) Applicare Telio CS Cem Implant sulle superfici interne, deterse e asciutte, del restauro. Le superfici devono essere sempre assolutamente prive di olio e polvere. Il tempo di lavorazione è di 2,5-3 minuti a temperatura ambiente di 23°C.

4) Inserimento del restauro e rimozione delle eccedenze di cemento:

Inserire il provvisorio sull'abutment esercitando una leggera pressione. La rimozione delle eccedenze può essere effettuata con diversi metodi:

4a) Eliminazione delle eccedenze con fotopolimerizzazione

aggiuntiva (tecnica dei quarti):

Fotoattivare le eccedenze di cemento con apparecchio fotopolimerizzante (ca. 650 mW/cm distanza di ca. 0 – 10 mm per 2 – 4 secondi per ogni lato (mesiovestibolare, disto-vestibolare, mesio-palatale, disto-palatale). In tal modo con uno scaler la rimozione delle eccedenze in consistenza plastica risulta facile. Quindi irradiare nuovamente tutti bordi per 10 secondi con una lampada fotopolimerizzante (>1000mW/cm per es. bluephase in modalità HIGH). Si consiglia l'impiego di un gel di glicerina (per es. Liquid Strip) per prevenire lo strato di inibizione.

4b) Rimozione delle eccedenze nello stato non indurito:

Subito dopo l’inserimento del restauro, rimuovere le eccedenze di cemento non indurito con microbrush / pennellino / pellet in gommapiuma / filo interdentale oppure scaler. Quindi si attende il processo di presa puramente autoindurente (ca. 2 minuti) oppure in alternativa lo si accelera attraverso fotopolimerizzazione per 10 secondi per superficie (>1000mW/cm modalità HIGH).

4c) Rimozione delle eccedenze nello stato indurito:

Rimuovere accuratamente le eccedenze di cemento dopo ca. 3 minuti con uno scaler o con un altro strumento.

Lasciare sulla siringa il puntale di miscelazione usato. Serve come tappo di chiusura fino a nuovo uso.

, per es. bluephase modalità LOW) ad una

; per es. bluephase in

;

ote

– A causa di vari fattori che influiscono sul risultato quando si cementa-

no restauri su abutment (per es. altezza e dimensioni dell'abutment, natura della superficie, precisione del restauro ecc.), può verificarsi un distacco prematuro oppure può formarsi un'adesione molto forte tra l'abutment e il restauro.

Se si verifica un distacco prematuro, migliorare l'adesione mediante irruvidimento delle superfici sia del restauro che dell'impianto. Ogni trattamento dell'abutment deve essere sempre effettuato fuori dal cavo orale.

Ossido di zirconio

Sabbiare le superfici (per i parametri vedere le istruzioni del produttore).

Restauri in metallo o su supporto metallico

Sabbiare la superficie del restauro (per i parametri vedere le istruzioni del produttore) fino ad ottenere una superficie opaca uniforme.

Restauri in resina (Telio CAD / Telio Lab)

Sabbiare le superfici interne del restauro (per i parametri vedere le istruzioni del produttore). Per Telio Lab / Telio CAD usare Al alla pressione di 1 – 2 bar.

Dopo il trattamento della superficie, risciacquare accuratamente i restauri e gli abutment con acqua spray e asciugarli con aria disoleata. Se necessario, pulire il restauro in apparecchio a ultrasuoni per un minuto circa.

– Se non è possibile rimuovere il restauro con metodi convenzionali,

creare l'accesso al canale della vite per mezzo di trapanazione.

– Se si estrude il materiale senza l'apposito puntale di miscelazione inse-

rito si può causare una contaminazione incrociata dei componenti di Telio CS Cem Implant.

– Come ogni altro composito, Telio CS Cem Implant è soggetto a inibizio-

ne da ossigeno. Per questo motivo il cemento miscelato sul blocchetto d'impasto extraoralmente non può essere preso come riferimento per il tempo di presa intraorale.

Attenzione

– Evitare il contatto del materiale non polimerizzato con la cute, le muco-

se o gli occhi. L'esposizione a Telio CS Cem Implant allo stato non polimerizzato può causare una lieve irritazione e, in casi molto rari, può verificarsi una sensibilizzazione della cute in seguito ad esposizioni ripetute.

– I normali guanti protettivi non proteggono dagli effetti sensibilizzanti

dei metacrilati.

Tempo di lavorazione

Circa 2,5 – 3 minuti a temperatura ambiente (23 °C), intraoralmente circa 1,5 – 2 minuti a temperatura corporea (37 °C).

Tempo di presa

Autopolimerizzazione: circa 3 minuti a temperatura corporea (37 °C). L'irraggiamento con una lampada di fotopolimerizzazione accelera il processo di polimerizzazione.

2O3

, 100µm,

onservazione

– Data di scadenza: vedere la data riportata su etichetta/confezione. – Non utilizzare dopo la data di scadenza indicata. – Conservare alla temperatura di 2 – 8 °C. – Usare solo a temperatura ambiente (il materiale refrigerato è più

viscoso e ha una presa rallentata).

Tenere il prodotto fuori della portata dei bambini! Ad esclusivo uso odontoiatrico.

Realizzazione delle istruzioni d’uso: 09/2011, Rev. 0

Produttore

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

Il prodotto è stato sviluppato unicamente per un utilizzo in campo dentale. Il suo impiego deve avvenire attenendosi esclusivamente alle relative istruzioni d’uso. Il produttore non si assume alcuna responsabilità per danni risultanti dalla mancata osservanza delle istruzioni d’uso o da utilizzi diversi dal campo d’applicazione previsto per questo prodotto. Gli utilizzatori sono responsabili della sperimentazione il prodotto in campi d’utilizzo non esplicitamente indicati nelle istruzioni d’uso. Le descrizioni e i dati non costituiscono alcuna garanzia delle proprietà dei prodotti e non sono vincolanti.

Telio®CS Cem Implant

Español

Instrucciones de uso

Descripción

Telio®CS Cem Implant es un cemento de composite autopolimerizable radiopaco con fotopolimerización opcional para fijación reversible, temporal, estética y semipermantente en pilares de implantes. Telio CS Cem Implant sirve tanto para la cementación de prótesis provisionales a largo plazo con soporte de metal (p. ej. Telio Lab) y sin metal (p. ej. Telio CAD) como para la cementación de coronas y puentes definitivos (con soporte de metal y óxido de circonio). Telio CS Cem Implant está diseñado para su uso durante 6 meses o más.

Color

Transparente, opaco

Composición

Telio CS Cem Implant está compuesto de bismetacrilatos (aprox. 52 % peso) y materiales de relleno (aprox. 46 % peso). Además contiene iniciadores, estabilizadores, componentes auxiliares y pigmentos.

Indicaciones

Integración reversible y semipermanente de restauraciones a largo plazo y definitivas en pilares de implantes.

Contraindicaciones

El uso de Telio CS Cem Implant está contraindicado cuando el paciente sea alérgico a cualquiera de los ingredientes de Telio CS Cem Implant – Aplicación en diente natural. – Cuando el diseño del implante sea inadecuado. Para que el pilar sea

adecuado – no debe tener preparación paralela – ha de tener una forma retentiva convencional.

Efectos secundarios

Los componentes de Telio CS Cem Implant pueden producir sensibilización en casos aislados en las personas predispuestas a ellos. En estos casos, los productos no deben ser utilizados de nuevo.

Otras interacciones

Las sustancias fenólicas (p. ej. eugenol) inhiben la polimerización. Por lo tanto, no deben utilizarse los productos que contengan estos componentes.

Aplicación

1) Retirar el tapón de la jeringa de presión doble, girándolo 1/4 de vuelta hacia la izquierda (¡desechar el tapón, no reutilizarlo!) y reemplazarlo por una cánula de mezcla. Si la jeringa de presión doble se ha utilizado

nteriormente, reemplazar la cánula de mezcla por una nueva justo

a antes de dispensar Telio CS Cem Implant.

2) Cuando se coloque la cánula de mezcla en la jeringa, debe comprobarse que la guía de la jeringa de doble cámara esté alineada con la cánula de mezcla. Empujar la cánula completamente hacia abajo hasta que la muesca de la cánula de mezcla esté alineada con la de la jeringa de presión doble. Sujetar la base de color y fijar la cánula girándola 1/4 de vuelta en el sentido de las agujas del reloj. La jeringa de doble cámara contiene cantidades predosificadas de Telio CS Cem Implant base y catalizador que se mezclan cuando los dos componentes salen a la cánula. Telio CS Cem Implant se puede aplicar directamente a la restauración que se va a cementar.

3) Extender Telio CS Cem Implant sobre las superficies internas secas y limpias de la restauración que se va a cementar. Las superficies no deben tener nunca aceite ni polvo. El tiempo de trabajo a temperatura ambiente (23 °C) es de entre 2,5 y 3 minutos.

4) Asentar la restauración y retirar los sobrantes de cemento:

asentar la restauración con una ligera presión sobre los pilares. Los sobrantes de cemento pueden retirarse utilizando diferentes métodos:

4a) Retirar el sobrante con fotopolimerización adicional

(técnica de cuartos)

Fotopolimerizar el sobrante de material con una lámpara de polimerización (aprox. 650 mW/cm LOW), durante 2 – 4 segundos por superficie (mesiooral, distooral, mesiobucal, distobucal) a una distancia de aprox. 0 – 10 mm. A continuación, el sobrante se retira fácilmente con un raspador de implantes gracias a la consistencia viscoelástica del material. Después, fotopolimerizar todos los márgenes de nuevo durante 10 segundos con una lámpara de polimerización (>1.000 mW/cm2, p. ej. bluephase, modo HIGH). Se recomienda utilizar un gel de glicerina (p. ej. Liquid Strip) para evitar la capa de inhibición.

4b) Retirar el sobrante sin polimerizar.

Retirar el sobrante de cemento no polimerizado inmediatamente después de asentar la restauración con un microbrush/pincel/pelet de espuma/hilo dental o raspador de implantes. Por último, esperar a la finalización del proceso de autopolimerización (aprox. 2 minutos) o acelerar el proceso de polimerización fotopolimerizando cada superficie (intensidad >1.000 mW/cm modo HIGH) durante 10 segundos.

4c) Retirar el sobrante polimerizado.

Aproximadamente 3 minutos después, retirar el sobrante cuidadosamente con un raspador de implantes u otros instrumentos.

Conservar la cánula de mezcla utilizada sobre la jeringa. Servirá como tapón hasta el próximo uso.

Notas especiales

– Debido a los múltiples factores que influyen en la fijación de las restau-

raciones sobre pilares de implantes (p. ej. la altura y la geometría del pilar, el estado de las superficies, el ajuste de la restauración, etc.) puede que la restauración se suelte antes de tiempo o que la adhesión entre el pilar y la restauración sea demasiado fuerte.

, p. ej. bluephase en el modo

, p. ej. bluephase,

n el caso de que se suelte antes de tiempo, la adhesión puede mejo-

E rarse aumentando la rugosidad de la superficie de la restauración y el pilar. La manipulación del pilar deberá ser siempre extra-oral.

Óxido de circonio

Limpieza por chorro de las superficies (parámetros de chorreo según las indicaciones del fabricante).

Restauraciones de metal o con soporte de metal

Limpieza por chorro de las superficies (parámetros de chorreo según las indicaciones del fabricante) hasta obtener una superficie mate uniforme.

Restauraciones a base de resina (Telio Lab/Telio CAD)

Limpieza por chorro de las superficies interiores de la restauración (parámetros de chorro según las indicaciones del fabricante. En el caso de Telio Lab/Telio CAD 1 – 2 bar, 100µm Al

Tras el tratamiento de las superficies, aclarar siempre a fondo las restauraciones y los pilares con agua pulverizada y secar con aire sin aceite. En caso necesario, limpiar en una unidad de ultrasonidos durante un minuto.

– Si la restauración no puede retirarse con los medios convencionales, se

deberá proceder a acceder al canal del tornillo mediante trepanación.

– Puede que se produzca contaminación cruzada de Telio CS Cem

Implant si el material se extrae sin cánulas de mezcla.

– Al igual que todos los composites, Telio CS Cem Implant está sujeto a

la inhibición de oxígeno. Por lo tanto, la mezcla en la paleta de mezclas fuera de la boca no supone ninguna referencia para la polimerización intraoral.

Avisos

– Evitar el contacto del material fresco con la piel/las mucosas y los ojos.

Telio CS Cem Implant no polimerizado puede resultar fácilmente irritante y, en caso de contacto repetido con la piel, puede producir sensibilización en casos aislados.

– Los guantes médicos convencionales no protegen del efecto sensibiliza-

dor de los metacrilatos.

Tiempo de trabajo

Aproximadamente de 2,5 a 3 minutos a temperatura ambiente (23 °C), intraoral a temperatura corporal (37 °C), entre 1,5 y 2 minutos.

Tiempo de polimerización

Autopolimerización: 3 min. aproximadamente en temperatura corporal (37 °C/98 °F). La aplicación de luz de una lámpara de polimerización acelera el proceso de polimerización.

Instrucciones de almacenamiento y conservación

– Caducidad: ver fecha de caducidad en la etiqueta/el envase – No utilizar el producto una vez caducado – Almacenamiento a 2 – 8 °C – Utilizar solo a temperatura ambiente (el material frío es más viscoso y

muestra un comportamiento de polimerización más lento)

2O3

Mantener fuera del alcance de los niños!

¡ Sólo para uso odontológico

Fecha de las instrucciones de uso: 09/2011, Rev. 0

Fabricante: Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan

Este material ha sido desarrollado para su uso en el ámbito dental y debe utilizarse de acuerdo con las instrucciones de uso. Todos los daños que se deriven de un uso distinto o inadecuado no son responsabilidad del fabricante. Además, el usuario está obligado a comprobar antes de su uso que el material es adecuado para el fin previsto, especialmente si dicho fin no consta en las instrucciones de uso.

Telio®CS Cem Implant

Português

Instruções de Uso

Descrição

Telio

CS Cem Implant é um compósito autopolimerizável, com opção fotopolimerizável, para cimentação temporária e reversível ou semi-permanente de restaurações sobre pilares de implantes. Telio CS Cem Implant é adequado para restaurações temporárias de longo prazo que são suportadas por metal (p.ex., Telio Lab) ou que são livres de metal (p.ex., Telio CAD), como também para as coroas e pontes permanentes (suportadas por metal ou óxido de zircônio). Telio CS Cem Implant foi projetado para permanecer na boca durante 6 meses e ou mais.

Cores

Transparente, Opaco

Composição

Telio CS Cem Implant é composto de bis-metacrilatos (aprox. 52% em peso) e “fillers” (aprox. 46% em peso). Os componentes adicionais são iniciadores, estabilizadores, auxiliares e pigmentos.

Indicações

Cimentação semi-permanente e reversível de provisórios de longa duração e cimentação permanente de restaurações sobre pilares de implantes.

Contra-indicação

O uso de Telio CS Cem Implant está contra-indicado: – Quando o paciente for alérgico a qualquer um dos ingredientes do

Telio CS Cem Implant. – Para a aplicação na estrutura do dente natural. – Quando o design do pilar do implante for inadequado. A configuração

do pilar deve satisfazer as seguintes exigências:

– Nenhuma preparação paralela do pilar.

– Forma retentiva convencional.

Efeitos colaterais

Em casos raros, os componentes de Telio CS Cem Implant podem causar reação de sensibilização em pacientes que apresentam uma hipersensibilidade para qualquer dos ingredientes do material. Nestes casos, Telio CS Cem Implant não deve ser usado.

Interações

As substâncias fenólicas (p.ex., eugenol) inibem a polimerização. Assim, a aplicação de materiais, que contêm estes ingredientes, deve ser evitada.

1) Remover a tampa da seringa de duplo-empuxo, girando em ¼ de volta para a direita (descartar a tampa, não reutilizar!) e substituir a tampa por uma ponta de mistura. Se a seringa de duplo-empuxo já foi utilizada anteriormente, substituir a ponta de mistura usada por uma nova, antes de dispensar o Telio CS Cem Implant.

2) Quando prender a ponta de mistura na seringa, é necessário verificar se a orientação da seringa de duplo-empuxo está alinhada com a ponta de mistura. Empurrar completamente a ponta para baixo até que o entalhe da ponta de mistura possa ser alinhado com o entalhe da seringa de duplo-empuxo. Fixar a ponta de mistura em seu lugar, girando a base colorida em ¼ de volta para a direita. A seringa de duploempuxo tem quantidades pré-dosadas de Telio CS Cem Implant base e catalisador, que são automaticamente misturadas e dispensadas quando os dois componentes são extruídos. Assim, o Telio CS Cem Implant pode ser aplicado diretamente na restauração.

3) Aplicar Telio Cem Implant sobre as superfícies internas limpas e secas da restauração. As superfícies devem permanecer livres de pó e de óleo durante todo o tempo. O tempo de trabalho é de, aprox., 2,5 a 3 minutos, na temperatura ambiente de 23°C/73°F.

4) Posicionamento da restauração e remoção do excesso de cimento:

Posicionar a restauração sobre o pilar com leve pressão. O excesso de cimento pode ser removido usando diferentes métodos:

4a) Remoção do excesso com adicional ativação de luz (técnica

de quadrantes):

Polimerizar o excesso de material com luz de polimerização (aprox.

, p.ex., bluephase, modo LOW), durante 2 a 4 segun-

650 mW/cm dos, por superfície de cada um dos quadrantes (mesio-vestibular, disto-vestibular, mesio-bucal, disto-bucal), a uma distância de, aprox., 0 – 10mm. Após este procedimento, o material de excesso poderá ser removido facilmente com uma cureta, porque exibe uma consistência viscoelástica. Em seguida, polimerizar novamente todas as margens, durante 10 segundos (> 1,000 mW/cm bluephase, modo HIGH). O uso de gel de glicerina (p.ex. Liquid Strip) é recomendado para prevenir a formação da camada de inibição.

4b) Remoção do excesso no estado não-polimerizado:

Remover o excesso de material não-curado imediatamente após o posicionamento da restauração, usando micro-pincel/escova/pelota de espuma/fio dental ou cureta. Em seguida, esperar até o término do processo de autopolimerização (aprox. 2 minutos) ou, então, acelerar o processo com a fotopolimerização da camada de cimento, com uma luz de polimerização (> 1000 mW/cm hase®, modo HIGH), durante 10 segundos por cada superfície.

4c) Remoção de excesso no estado polimerizado:

Aprox. 3 minutos após o posicionamento da restauração, remover o excesso de material cuidadosamente, com uma cureta ou outros instrumentos.

Deixar a ponta de mistura usada sobre a seringa, para funcionar como uma tampa, até a próxima aplicação.

, p. ex.,

, p.ex., bluep-

otas

– Devido aos vários fatores que podem influenciar o resultado quando as

restaurações são cimentadas sobre pilares de implantes (p.ex., dimensões e altura dos pilares, textura de superfície, ajuste da restauração, etc.), é possível ocorrer um deslocamento prematuro ou uma ligação muito forte entre o pilar do implante e a restauração. Se o deslocamento prematuro ocorrer, a adesão pode ser melhorada com a asperização das superfícies do pilar e da restauração. O tratamento do pilar do implante sempre deverá ser executado fora da boca.

Óxido de zircônio

Jatear as superfícies (parâmetros de acordo com as instruções do fabricante).

Metal ou restaurações suportadas por metal

Aplicar jato de areia na superfície da restauração (parâmetros de acordo com as instruções do fabricante) até que uma superfície uniforme e fosca possa ser obtida.

Restaurações baseadas em resina (Telio CAD/Telio Lab)

Aplicar jato de areia nas superfícies internas da restauração, (parâmetros conforme as instruções do fabricante). Para Telio Lab / Telio CAD empregar Al

A seguir, efetuar o tratamento das superfícies, lavando completamente as restaurações e os pilares com spray de água e secar com ar, isento de óleo. Se for necessário, limpar a restauração em uma unidade de ultra-som, durante aprox. 1 minuto.

– Quando a restauração não puder ser removida pelos métodos conven-

cionais, o acesso para o canal do parafuso poderá ser criado por meio de trepanação.

– A extrusão de material, sem a ponta de mistura posicionada, poderá

resultar em contaminação cruzada dos componentes do Telio CS Cem Implant.

– Como em todos os outros compósitos, Telio CS Cem Implant está sujei-

to à inibição pelo oxigênio. Deste modo, o tempo de presa do cimento, quando for misturado sobre um bloco de mistura, fora da boca, não poderá ser levado como referência para o comportamento de presa intra-oral.

Advertências

– O contato do material, ainda não polimerizado, com pele, mucosas e

olhos deve ser evitado. Telio CS Cem Implant, ainda não polimerizado, pode causar leve irritação e, em casos raros, pode causar reação de sensibilização, quando a pele for repetidamente exposta.

– As luvas médicas comerciais não oferecem proteção para o efeito de

sensibilização promovido pelos metacrilatos.

Tempo de trabalho

Na temperatura ambiente (23 °C/73 °F), aprox. 2,5 a 3 minutos. Na temperatura intra-oral (37 °C/98 °F), aprox. 1.5 – 2 minutos.

, 100µm, 1 – 2 bar (15 – 29 psi) de pressão.

2O3

empo de cura

Auto-cura: Na temperatura do corpo (37 °C/98 °F), aprox. 3 minutos. A exposição à luz de unidade polimerização acelerará o processo de polimerização.

Armazenamento

– Vida útil: ver data de validade na etiqueta/ embalagem. – Não usar depois da indicada data de vencimento. – Armazenar em 2 – 8°C / 36 – 46ºF – Usar apenas na temperatura ambiente (o material frio é mais viscoso e

leva muito mais tempo para curar).

Manter fora do alcance das crianças ! Somente para uso odontológico !

Data de elaboração destas Instruções de Uso:

09/2011, Rev. 0

Fabricante:

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan / Liechtenstein.

Este Produto foi fabricado somente para uso dental e deve ser manipulado de acordo com as Instruções de Uso. O fabricante não é responsável pelos danos causados por outros usos ou por manipulação incorreta. Além disto, o usuário está obrigado a comprovar, antes do emprego e sob sua responsabilidade, se este produto é compatível com a utilização desejada, principalmente quando esta utilização não está indicada nas Instruções de Uso. Descrições e dados não constituem nenhum tipo de garantia e, por isto, não possuem qualquer vinculação.

Telio®CS Cem Implant

Svenska

Bruksanvisning

Beskrivning

Telio®CS Cem Implant är ett röntgenopakt, självhärdande kompositcement med ljushärdningsmöjlighet, avsett för estetisk, temporär, reversibel/semipermanent cementering på implantatdistanser. Telio CS Cem Implant kan användas för cementering av metallunderstödda (t.ex. Telio Lab) och metallfria (t.ex. Telio CAD) långtidsprovisorier samt för cementering av permanenta kronor och broar (metall-, zirkoniumoxidunderstödda). Telio CS Cem Implant har utvecklats för användning intraoralt i 6 månader eller längre.

Färg

Transparent, opak

Sammansättning

Telio CS Cem Implant består av bismetakrylater (ca 52 vikts-%) och fillers (ca 46 vikts-%). Dessutom innehåller det initiatorer, stabilisatorer, hjälpämnen och färgpigment.

Indikationer:

Reversibel / semipermanent cementering av långtidsprovisorier och definitiva protetiska restaurationer på implantatdistanser.

Kontraindikationer

Vid känd allergi mot något innehållsämne i Telio CS Cem Implant ska materialet inte användas. – Användning på naturliga tandpelare – Olämplig utformning på distansen. – Följande krav ställs på distansutformningen:

– distansen får inte prepareras med parallella väggar – konventionell retentionsform

Biverkningar

I sällsynta fall kan personer som är överkänsliga mot innehållsämnen i Telio CS Cem Implant reagera känsligt på materialet. I dessa fall ska användningen av materialet upphöra.

Interaktioner

Substanser som innehåller fenol (t.ex. eugenol) hämmar polymeriseringen. Därför ska produkter som innehåller sådana komponenter inte användas.

Användning

1) Locket på dubbelsprutan avlägsnas genom att det vrids 1/4-varv moturs (kassera locket, det ska inte användas mer!) och byts ut mot en

landningsspets. Om dubbelsprutan redan har använts tidigare, ska en

b ny blandningsspets sättas på precis innan Telio CS Cem Implantat ska appliceras.

2) Säkerställ att markeringen på dubbelsprutan är i fas med den på blandningsspetsen när blandningsspetsen sätts fast på dubbelsprutan. Tryck ner spetsen helt tills skårorna på blandningsspetsen respektive dubbelsprutan möts. Ta tag i den färgade basen på blandningsspetsen och säkra den genom att vrida den ¼-varv medurs. Dubbelsprutan innehåller fördoserade Telio CS Cem Implant bas- och katalysatorpastor som är klara för användning och automatiskt blandas samtidigt som materialet trycks ut ur sprutan. Telio CS Cem Implant kan därför appliceras direkt i restaurationen som ska cementeras.

3) Telio CS Cem Implant appliceras på de rena och torra innerytorna på restaurationen som ska cementeras. Ytorna måste alltid vara fria från olja och damm. Arbetstiden är ca 2,5 - 3 minuter vid normal rumstemperatur (23 °C).

4) Placering av den protetiska restaurationen och avlägsnande av överskottscement:

Placera restaurationen på distansen/distanserna med ett lätt tryck. Överskottscement kan avlägsnas med olika metoder:

4a) Avlägsnande av överskott med hjälp av ljushärdning

(fjärdedelsteknik)

Ljushärda cementöverskottet med en polymerisationslampa (ca

, t.ex. bluephase i LOW-programmet) under 2 –4

650 mW/cm sekunder per fjärdedel (mesiolingualt, distolingualt, mesiobuccalt, distobuccalt) med ett avstånd på 0 – 10 mm. Därefter är det lätt att ta bort överskottet med en implantatscaler, eftersom det då har en seg plastisk konsistens. Ljushärda därefter alla cementskarvar igen under 10 sekunder med en polymerisationslampa (>1000mW/cm2; t.ex. bluephase i HIGH-programmet). För att undvika syreinhiberingsskiktet rekommenderas användning av glyceringel (t.ex. Liquid Strip).

4b) Avlägsnande av överskott i ohärdat tillstånd

Avlägsna ohärdat cementöverskott omedelbart efter placeringen med hjälp av microbrush/pensel/skumpellet/tandtråd eller implantatscaler. Vänta därefter till självhärdningsprocessen är avslutad (ca 2 minuter) eller (valfritt) påskynda polymeriseringsprocessen genom att ljushärda (>1000mW/cm programmet), under 10 sekunder per sida.

4c) Avlägsnande av överskott i härdat tillstånd

Avlägsna cementöverskottet noggrant med en implantatscaler eller annat lämpligt instrument, ca 3 minuter efter placering av restaurationen.

Låt den använda blandningsspetsen sitta kvar som lock på dubbelsprutan tills nästa användning!

Anmärkning

– På grund av ett flertal faktorer som påverkar resultatet vid cementering

av protetiska restaurationer på implantatdistanser (t.ex. distansens geometri och höjd, ytstruktur, restaurationens passform osv.) kan det hända att restaurationen lossnar från implantatet eller att bindningen mellan restaurationen och distansen blir alltför stark.

; t.ex. bluephase i HIGH-

m restaurationen skulle lossna i förtid kan det hjälpa att öka ytråhe-

O ten på restaurationens respektive distansens sammanbindningsytor för att förstärka bindningen. Behandlingen av distansen måste alltid utföras extraoralt.

Zirkoniumoxid

Blästring av ytan (blästringsparameter enligt tillverkarens anvisningar).

Metall resp. metallunderstödda restaurationer

Blästring av ytan (blästringsparameter enligt tillverkarens anvisningar) tills en enhetlig matt yta har erhållits.

Kompositbaserade (Telio Lab/Telio CAD) restaurationer

Blästring av den inre ytan på den protetiska restaurationen (blästringsparameter enligt tillverkarens anvisningar. Vid Telio Lab/Telio CAD 1 –2 bar, 100µm Al

Efter ytbehandlingen ska restaurationen och distansen alltid noggrant sköljas av med hjälp av vattenspray och därefter torkas med oljefri luft. Vid behov rengöring i ett ultraljudsbad i ungefär 1 minut.

– Om restaurationen inte kan avlägsnas på konventionellt sätt kan

restaurationen trepaneras för att få åtkomst till skruvkanalen.

– Det kan ske en korskontaminering av Telio CS Cem Implant om materi-

alet trycks ut utan blandningsspets.

– Liksom alla andra kompositer är Telio CS Cem Implant utsatt för syrein-

hibering. Därför är en blandning av materialet på ett blandningsblock extraoralt ingen referens för hur materialet härdar intraoralt.

Varningar

– Undvik kontakt med ohärdat material på hud/slemhinna och ögon.

Ohärdat Telio CS Implant kan verka lätt irriterande och vid upprepad hudkontakt i sällsynta fall leda till en sensibilisering mot materialet.

– Vanliga i handeln förekommande skyddshandskar för tandvården skyd-

dar inte mot sensibilisering för metakrylater.

Arbetstid

Ca 2,5 – 3 minuter vid rumstemperatur (23 °C); ca 1,5 – 2 minuter intraoralt vid kroppstemperatur (37 °C).

Härdningstid

Självhärdande: ca 3 minuter vid kroppstemperatur (37 °C) Vid ljushärdning med en polymeriseringslampa påskyndas härdningsprocessen.

Förvaring och hållbarhet

– Hållbarhet: se utgångsdatum på etiketten/förpackningen. – Använd inte materialet efter utgångsdatum. – Förvaring vid 2 – 8°C. – Använd endast materialet när det har rumstemperatur (kylskåpskallt

material har högre viskositet och härdar långsammare).

Förvaras utom räckhåll för barn Endast för dentalt bruk

2O3

nformationen är sammanställd: 09/2011, Rev. 0

Tillverkare

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

Denna produkt har utvecklats speciellt för dentalt bruk. Bearbetningen skall noga följa de givna instruktionerna. Tillverkaren påtager sig inget ansvar för skador som uppkommer genom oaktsamhet i materialbehandlingen, underlåtande att följa givna föreskrifter eller användning utöver de fastställda indikationsområdena. Användaren är ansvarig för kontrollen av produktens lämplighet för annat ändamål än vad som finns direkt uttryckt i instruktionerna.

Telio®CS Cem Implant

Dansk

Brugsanvisning

Beskrivelse

Telio®CS Cem Implant er en røngtenfast, selvhærdende, resinbaseret cement med mulighed for lyshærdning ved æstetisk, midlertidig, reversibel/semipermanent cementering af restaureringer på implantatabutments. Telio CS Cem Implant er egnet til provisorier, der skal holde i længere tid, og som er metalunderstøttede (fx. Telio Lab) og metalfri (fx Telio CAD), samt permanente kroner og broer (metalunderstøttede, zirkoniumoxidunderstøttede). Telio CS Cem Implant er udformet til at blive i munden i 6 måneder eller længere.

Farve

Transparent, uigennemsigtig

Sammensætning

Telio CS Cem Implant er sammensat af bismethacrylater (ca. 52 vægt%) og fyldstof (ca. 46 vægt%). Indeholder desuden initiatorer, stabilisatorer, hjælpestoffer og pigmenter.

Indikationer

Reversibel/semipermanent cementering af langsigtede, provisoriske og permanente restaureringer på implantatabutments.

Kontraindikationer

Brug af Telio CS Cem Implant er kontraindiceret i følgende tilfælde: hvis en patient har kendt allergi over for et eller flere af indholdsstofferne i Telio CS Cem Implant – Anbringelse på naturlig tandstruktur – Hvis abutmentdesignet er uegnet. – Abutmentdesignet skal imødekomme følgende krav:

– Ingen parallelvægget forberedelse af abutmentet – Konventionel bevarende form.

Bivirkninger

Telio CS Cem Implant kan i sjældne tilfælde føre til en sensibilisering hos patienter med overfølsomhed over for et eller flere af materialets indholdsstoffer. Telio CS Cem Implant må ikke anvendes i sådanne tilfælde.

Interaktioner

Fenoliske substanser (fx eugenol) hæmmer afbinding. Anvendelse af materialer, som indeholder disse substanser, skal derfor undgås.

nvendelse

1) Fjern hætten på dobbeltsprøjten ved at dreje den 1/4 omgang mod uret (hætten skal kasseres og må ikke genanvendes), og udskift den med en blandespids. Hvis dobbeltsprøjten er blevet anvendt før, skal der påsættes en ny blandespids umiddelbart før brug af Telio CS Cem Implant.

2) Ved montering af blandespidsen på sprøjten skal man sørge for, at føringerne på dobbeltsprøjten og blandespidsen stemmer overens. Tryk spidsen helt ned, indtil indkærvningen på blandespidsen flugter med den på dobbeltsprøjten. Fastgør blandespidsen ved at tage fat om den kulørte bund og dreje den 1/4 omgang med uret. Dobbeltsprøjten indeholder færdige doser af Telio CS Cem Implant-basen og -katalysatoren, som blandes automatisk, når de to bestanddele presses ud gennem kanylen. Telio CS Cem Implant kan dermed appliceres direkte i restaureringen.

3) Påfør Telio CS Cem Implant på de rene og tørre indvendige restaureringsflader. Overfladerne skal altid være fri for olie og støv. Arbejdstiden ved en rumtemperatur på (23 °C / 73 °F) er ca. 2,5 til 3 minutter.

4) Anbringelse af restaureringen og fjernelse af overskydende cement:

Anbring den provisoriske restaurering på abutmentet(erne) med et let tryk. Overskydende cement kan fjernes på flere forskellige måder:

4a) Fjernelse af overskydende materiale med supplerende

lyshærdning (fjerdedelsteknik):

Overskydende cement lyshærdes med en polymerisationslampe (ca. 650 mW/cm2, fx bluephase i LOW-modus) i 2 – 4 sekunder pr. kvart overflade (mesiooralt, distooralt, mesiobuccalt, distobuccalt) ved en afstand på ca. 0 – 10 mm. Det overskydende materiale kan derefter nemt fjernes ved hjælp af en scaler, da det nu har en viskoplastisk konsistens. Derefter belyses alle marginer på ny i 10 sekunder (>1000 mW/cm anbefales at benytte glyceringel (fx Liquid Strip) for at forhindre lag, der ikke hærder.

4b) Fjernelse af overskydende materiale i uafbundet tilstand:

Fjern uafbundet overskudsmateriale umiddelbart efter cementeringen med en microbrush/pensel/skumpellet/tandtråd eller scaler. Derefter skal man vente på at selvhærdningen er færdig (ca. 2 min.), eller denne kan fremskyndes med lyspolymerisation af cementlaget (>1000 mW/cm 10 sekunder pr. flade.

4c) Fjernelse af overskudsmateriale i afbundet tilstand:

Ca. 3 minutter efter at have anbragt restaureringen kan man fjerne overskudsmaterialet med en scaler eller andre instrumenter.

Lad den anvendte blandespids blive siddende på kanylen som en hætte, indtil næste anvendelse.

Bemærk

– Flere faktorer kan indvirke på resultatet, når restaureringerne cemente-

res på implantatabutmenter (fx abutmentets højde og dimensioner, overfladetekstur, restaureringens pasform osv.). Abutmentet kan således løsne sig fra restaureringen før tid eller tilhæftningen kan være for kraftig.

; fx bluephase i HIGH-modus). Det

; fx bluephase i HIGH-modus) i

vis abutmentet løsner sig, kan dets tilhæftning forbedres ved at gøre

H overfladerne på restaureringen og abutmentet mere ru. Abutmentet skal altid forarbejdes uden for munden.

Zirkoniumoxid

Sandblæs overfladerne (anvend parametrene i anvisningen fra producenten).

Metal- eller metalunderstøttede restaureringer

Sandblæs restaureringens overflade (anvend parametrene i anvisningen fra producenten), indtil der opnås en jævn, mat overflade.

Resinbaserede (Telio CAD/Telio Lab) restaureringer

Sandblæs de indvendige overflader (anvend parametrene i anvisningen fra producenten) Ved Telio Lab / Telio CAD anvend Al 1 – 2 bar (15 – 29 psi) tryk.

Efter overfladebehandlingen skal restaureringerne og abutmenterne skylles med vand og tørres med oliefri luft. Hvis det er nødvendigt, kan restaureringen renses ved ultralyd i ca. et minut.

– Hvis ikke restaureringen kan fjernes ved konventionelle metoder, kan

der skabes adgang til skruekanalen ved udboring.

– Udpresning af materiale uden blandespidsen kan medføre krydskonta-

minering af Telio CS Cem Implants komponenter.

– Som alle andre kompositmaterialer, hæmmes Telio CS Cem Implant af

ilt. Derfor gælder cementets afbindingstid for blanding på en palet uden for mundhulen ikke i de intraorale omgivelser.

Advarsel

– Undgå, at uhærdet materiale kommer i kontakt med hud, slimhinder

eller øjne.

– Uafbundet Telio CS Cem Implant kan medføre let irritation og i meget

sjældne tilfælde sensibilisering, hvis huden udsættes for materialet gentagne gange. Almindelige medicinske undersøgelseshandsker yder ingen beskyttelse mod den sensibiliserende virkning fra methacrylater.

Forarbejdningstid

Ved stuetemperatur (23 °C / 73 °F) ca. 2,5 til 3 minutter, intraoralt ved kropstemperatur (37°C / 98°F) ca. 1,5 – 2 minutter.

Afbindingstid

Selvhærdende: Ved kropstemperatur (37 °C / 98 °F) ca. 3 minutter. Belysning med polymerisationslampe fremskynder afbindingsprocessen.

Opbevaring

Holdbarhed: se udløbsdatoen på etiketten/emballagen. – Produktet må ikke anvendes efter udløbsdatoen. – Opbevares ved 2 – 8 °C / 36 – -46 ºF – Må kun anvendes ved stuetemperatur (afkølet materiale er mere

viskøst og hærder langsommere).

Opbevares utilgængeligt for børn! Kun til brug for tandlæger.

, 100µm ved

2O3

rugsanvisningen er fremstillet: 09/2011, Rev. 0

Producent

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan / Liechtenstein

Materialet er blevet udviklet udelukkende til anvendelse i tandlægeindustrien. Bearbejdning skal udføres i nøje overensstemmelse med brugsanvisningen. Producenten påtager sig intet erstatningsansvar for skader, der er opstået som følge af manglende overholdelse af anvisningerne eller det stipulerede anvendelsesområde. Brugeren er forpligtet til at teste produkterne for deres egnethed og anvendelse til formål, der ikke er udtrykkeligt anført i brugsanvisningen. Beskrivelser og data udgør ingen garanti for attributterne og er ikke bindende.

Telio®CS Cem Implant

Suomi

Käyttöohjeet

Kuvaus

Telio®CS Cem Implant on röntgenopaakki itsekovetteinen ja tarvittaessa valokovetteinen yhdistelmämuovisementti, joka on tarkoitettu esteettiseen, tilapäiseen, reversiibeliin / semipermanenttiin kiinnitykseen implantin abutmentin päälle. Telio CS Cem Implantia voidaan käyttää metallituettujen (esim. Telio Lab) ja metallittomien (esim. Telio CAD) pitkäaikaisten väliaikaiskappaleiden sekä lopullisten kruunujen ja siltojen (metalli-, zirkoniumtuetut) sementointiin. Telio CS Cem Implant on suunniteltu 6 kuukauden tai sitä pidemmälle käyttöajalle.

Väri

Läpikuultava, opaakki

Koostumus

Telio CS Cem Implant koostuu bismetakrylaateista (n. 52 paino-%) ja täyteaineista (n. 46 paino-%). Lisäksi se sisältää initiaattoreita, stabilisaattoreita, lisäaineita ja pigmenttejä.

Käyttöaiheet

Pitkäaikaisten väliaikaisten ja lopullisten restauraatioiden reversiibeli / semipermanentti niveltäminen implantin abutmenttiin.

Vasta-aiheet

Mikäli potilaan tiedetään olevan allerginen jollekin Telio CS Cem Implantin ainesosalle, materiaalia ei tule käyttää. – käyttö luonnollisissa hammaspilareissa – soveltumaton abutmentin muotoilu – Abutmentin muotoilulle asetetaan seuraavat vaatimukset:

– ei abutmentin preparointia samansuuntaisilla seinämillä – konventionaalinen retentoiva muoto

Haittavaikutukset

Telio CS Cem Implantin aineosat saattavat harvinaisissa tapauksissa aiheuttaa herkistymistä materiaalin jollekin ainesosalle herkistyneillä henkilöillä. Materiaalia ei tällaisessa tapauksessa tulee enää käyttää.

Yhteisvaikutukset

Fenoliset aineet (esim. eugonoli) inhiboivat polymeroitumista. Sen vuoksi näitä komponentteja sisältäviä tuotteita ei tule käyttää.

äyttö

1) Poista kaksoisruiskun korkki kiertämällä 1/4-kierrosta vastapäivään (hävitä korkki, älä käytä sitä uudelleen!) ja korvaa se sekoituskanyylilla. Jos kaksoisruiskua on käytetty aikaisemmin, vaihda sekoituskanyyli uuteen juuri ennen Telio CS Cem Implantin annostelua.

2) Kiinnitä sekoituskanyyli ruiskuun siten, että kaksoisruiskun varsi on linjassa sekoituskanyylin varteen nähden. Paina kanyyli kokonaan alas kunnes sekoituskanyylin ura on suorassa linjassa kaksoisruiskun uran kanssa. Tartu värilliseen pohjaan ja kiinnitä kanyyli paikoilleen kiertämällä sitä 1/4 kierrosta myötäpäivään. Telio CS Cem Implant perus- ja katalyyttipasta on annosteltu kaksoisruiskeeseen käyttövalmiiksi ja annosteltaessa ne sekoittuvat kanyylissä. Telio CS Cem Implant voidaan siten annostella suoraan sementoitavaan restauraatioon.

3) Levitä Telio CS Cem Implant sementoitavan restauraation puhtaille ja kuiville sisäpinnoille. Pintojen on oltava aina puhtaat öljystä ja pölystä. Työskentelyaika huoneen lämpötilassa (23 °C) on n. 2,5 – 3 minuuttia.

4) Restauraation istuttaminen ja ylimääräisen sementin poistaminen:

Sijoita restauraatio kevyesti painaen abutmenttiin/abutmentteihin. Ylimäärät voidaan poistaa eri menetelmin:

4a) Ylimäärien poisto ylimääräisellä valokovetuksella

(neljännestekniikka)

Valokoveta ylimääräistä sementtiä kovetusvalolla (n. 650 mW/cm esim. bluephase LOW-toiminto) n. 0 – 10 mm:n etäisyydeltä 2 –4 sekunnin ajan neljännespintaa kohti (mesio-oraalinen, disto-oraalinen, mesiobukkaali, distobukkaali). Koska sementti on koostumukseltaan viskoplastinen, poistaminen hammaskivi-instrumentilla on helppoa. Koveta lopuksi kaikkia reunoja kovetusvalolla vielä kerran 10 sekuntia (esim. bluephase (>1000mW/cm2; esim. bluephase HIGH-toiminnolla). Inhibiokerroksen välttämiseksi suositellaan glyseriinigeelin käyttöä (esim. Liquid Strip).

4b) Ylimäärien poisto kovettumattomassa tilassa

Poista ylimäärämateriaali kovettumattomassa tilassa välittömästi restauraation jälkeen mikroharjalla / siveltimellä / superlonityynyllä / hammaslangalla tai hammaskivi-instrumentilla. Odota sitten, kunnes itsekovettumisprosessi (n. 2 minuuttia) on päättynyt tai nopeuta prosessia valokovettamalla 10 sekuntia pintaa kohti (>1000mW/cm

4c) Ylimäärän poisto kovettuneessa tilassa

Poista ylimäärämateriaali n. 3 minuutin kuluttua hammaskiviinstrumentilla tai muulla instrumentilla.

Jätä sekoituskanyyli patruunaan suojukseksi seuraavaan käyttökertaan asti!

Ohjeita

– Restauraatioiden abutmenttien kiinnittymiseen liittyvien lukuisten vai-

kutustekijöiden johdosta (esim. abutmentin korkeus ja geometria, pinnanlaatu, restauraation sopivuus jne.) saattaa restauraatio irrota ennen aikojaan tai abutmentin ja restauraation välille syntyy liian voimakas sidos.

; esim. bluephase HIGH-toiminto).

os tapahtuu ennenaikainen irtoaminen, voidaan sidosta parantaa kar-

J hentamalla lisää restauraatio- ja abutmenttipintoja. Abutmenttia on käsiteltävä aina ekstraoraalisesti.

Zirkoniumoksidi

Pinnan puhaltaminen (puhallusparametrit valmistajan ohjeiden mukaisesti)

Metalli- ja metallituetut restauraatiot

Puhalla pintaa (puhallusparametrit restauraatiomateriaalien valmistajan ohjeiden mukaisesti), kunnes pinta on tasaisen matta.

Muovipohjaiset (Telio Lab / Telio CAD) restauraatiot

Restauraation sisäpinnan puhaltaminen (puhallusparametrit valmistajan ohjeiden mukaisesti. Telio Lab / Telio CAD: 1–2 baaria, 100µm

)

2O3

Huuhtele restauraatiot ja abutmentit pinnan käsittelyn jälkeen aina huolellisesti vesisuihkulla ja kuivaa öljyttömällä ilmalla. Puhdista restauraatio tarvittaessa ultraäänilaitteessa noin 1 minuutin ajan.

– Jos restauraatiota ei voida poistaa konventionaalisin keinoin, ruuvika-

navaan päästään trepanoimalla.

– Telio CS Cem Implantia käytettäessä on ristikontaminaation vaara, jos

materiaalia otetaan ilman sekoituskanyyliä.

– Kaikkien muiden yhdistelmämuovien tavoin Telio CS Cem Implant on

altis happi-inhibitioille. Tämän vuoksi suun ulkopuolella sekoitusalustalla sekoitetun sementin käyttäytyminen ei ole verrattavissa sementin intraoraaliseen kovettumiskäyttäytymiseen.

Varoitukset

– Vältä kovettumattoman aineen joutumista iholle, limakalvoille ja sil-

miin. Kovettumattomana Telio CS Cem Implant voi olla lievästi ärsyttävää ja harvinaisissa tapauksissa toistuva ihokontakti saattaa aiheuttaa herkistymisen.

– Kaupallisesti saatavissa olevat lääketieteelliseen käyttöön tarkoitetut

käsineet eivät suojaa metakrylaattien herkistävältä vaikutukselta.

Työskentelyaika

Huoneen lämpötilassa (23 °C) n. 2,5 – 3 minuuttia, intraoraalisesti kehonlämpötilassa (37 °C) n. 1,5 – 2 minuuttia.

Kovettumisaika

Itsekovetteinen: kehonlämpötilassa (37 °C) n. 3 minuuttia Valottaminen polymerisaatiolampulla nopeuttaa kovettumista.

Varastointi- ja säilytysohjeet

– Säilyvyys, katso viimeinen käyttöpäivä etiketistä / pakkauksesta. – Älä käytä viimeisen käyttöpäivän jälkeen. – Säilytys 2 – 8 °C:ssa – Käyttö vain huoneenlämpötilassa (jäähtynyt materiaali on

viskoosisempaa ja kovettuu hitaammin).

Pidä poissa lasten ulottuvilta! Vain hammaslääketieteelliseen käyttöön!

iedot päivitetty: 09/2011, Rev. 0

Valmistaja

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

ämä tuote on tarkoitettu ainoastaan hammaslääketieteelliseen käyttöön. Tuotetta

T tulee käsitellä tarkasti käyttöohjeita noudattaen. Valmistaja ei vastaa vahingoista, jotka johtuvat siitä, että käyttöohjeita tai ohjeiden mukaista soveltamisalaa ei noudateta. Tuotteen soveltuvuuden testaaminen aiottuun käyttötarkoitukseen on käyttäjän vastuulla erityisesti silloin, kun kyseistä käyttötarkoitusta ei ole mainittu näissä käyttöohjeissa.

Telio®CS Cem Implant

Norsk

Bruksanvisning

Beskrivelse

Telio®CS Cem Implant er en røngtenfast, selvherdende, harpikssement med mulighet for lysherding ved estetisk, midlertidig, reversibel/halvpermanent sementering av restaureringer på implantatabutments. Telio CS Cem Implant egner seg til langsiktige midlertidige restaureringer som er metallstøttet (f.eks. Telio Lab) og metallfri (f.eks. Telio CAD), samt til permanente kroner og broer (metallstøttet, zirkoniumoksidstøttet). Telio CS Cem Implant har blitt designet til å holdes i munnen i 6 måneder og lenger.

Fargenyanse

Transparent, opak

Sammensetning

Telio CS Cem Implant består av bismetakrylater (ca. 52 vekt-%) og fyllere (ca. 46 vekt-%). Initiatorer, stabilisatorer, hjelpemidler og pigmenter er tilleggskomponenter.

Indikasjoner

Reversibel/halvpermanent sementering av langsiktige, midlertidige og permanente restaureringer på implantatabutments.

Kontraindikasjoner

Bruken av Telio CS Cem Implant er kontraindisert hvis det er kjent at en pasient er allergisk overfor noen av innholdsstoffene i Telio CS Cem Implant – Applisering på naturlig tannstruktur – Hvis abutmentdesignen er uegnet. – Abutmentdesignen skal oppfylle følgende krav:

– Ingen parallellveggklargjøring av abutment – Konvensjonell retentiv form.

Bivirkninger

I sjeldne tilfeller kan komponenter i Telio CS Cem Implant forårsake en sensitiserende reaksjon i pasienter med overfølsomhet for noen av innholdsstoffene i materialet. Telio CS Cem Implant skal ikke brukes i disse tilfellene.

Interaksjoner

Fenolsubstanser (f.eks. eugenol) hemmer polymerisering. Som følge av dette skal bruk av materialer som inneholder disse substansene unngås.

Bruk

1) Fjern hetten på dobbeltkammer med en 1/4 rotasjon mot klokken (kast hetten, ikke bruk den på nytt!) og erstatt den med en blandespiss.

vis dobbeltkammer har blitt brukt tidligere, monter en ny blandespiss

H rett før appliseringen av Telio CS Cem Implant.

2) Ved festing av blandespissen til sprøyten, se til at føringen på dobbeltkammer flukter med den på blandespissen. Skyv spissen helt ned inntil hakket på blandespissen flukter med det på dobbeltskyvesprøyten. Sikre blandespissen på plass ved å gripe den fargede basen og dreie 1/4 runde med klokken. Dobbeltkammer inneholder forhåndsdoserte mengder av Telio CS Cem Implant-base og katalysator som automatisk blandes og dispenseres når de to komponentene ekstruderes. Dermed kan Telio CS Cem Implant påføres direkte inn i restaureringen.

3) Påfør Telio CS Cem Implant på de rene og tørre innvendige overflatene til restaureringen. Overflatene må til enhver tid være fri for olje og støv. Arbeidstiden ved romtemperatur (23 °C / 73 °F) er ca. 2,5 til 3 minutter.

4) Plassering av restaureringen og fjerning av overflødig sement:

Fest den midlertidige restaureringen på abutment(s) med lett trykk. Overflødig sement kan fjernes ved bruk av ulike metoder:

4a) Fjerning av overflødig materiale med ekstra lys-aktivering

(firedelsteknikk):

Overflødig sement lysaktiveres ved hjelp av polymeriseringslampe (ca. 650 mW/cm på ca. 0 – 10 mm i 2 – 4 sekunder per firedelside (mesiooralt, distooralt, mesiobukkalt, distobukkalt). Deretter kan den lett fjernes med en implantatscaler i seig plastisk tilstand. Belys deretter alle kantene en gang til i 10 sekunder (>1000mW/cm2; f.eks. bluephase i HIGH-modus). Det anbefales bruk av glyseringel (f.eks. Liquid Strip) for å forebygge sperrelaget.

4b) Fjerning av overflødig materiale i ikke-herdet tilstand:

Fjern overflødig materiale i uherdet tilstand umiddelbart etter festing ved hjelp av microbrush / pensel / skumgummipellet / tanntråd eller implantatscaler. Vent deretter til den selvherdende herdeprosessen er avsluttet (ca. 2 minutter) eller bruk alternativt lysherding på sementlaget med et herdelys i 10 sekunder per overflate (>1000mW/cm polymeriseringsprosessen.

4c) Fjerning av overflødig materiale i herdet tilstand:

Fjern overflødig sement omhyggelig med en implantatscaler eller med et annet instrument etter ca. 3 minutter etter festing av restaureringen.

La den brukte blandekanylen sitte på sprøyten som lokk til neste gangs bruk.

Merknader

– På grunn av ulike faktorer som påvirker resultatet når restaureringer

sementeres på implantatabutments (f.eks. abutmenthøyde og dimensjoner, overflatetekstur, restaureringstilpasning osv.), kan det oppstå prematur løsning eller en svært sterk binding mellom abutment og restaureringen.

Hvis det forekommer prematur løsning, kan adhesjonen forbedres ved å gjøre restaurerings- og abutmentoverflatene ruere. Abutmentbehandlingen må alltid utføres utenfor munnen.

, f.eks. bluephase i LOW-modus) med en avstand

; f.eks. bluephase i HIGH-modus) for å fremskynde

irkoniumoksid

Sandblås overflatene (parametre ifølge produsentens instruksjoner).

Metall- eller metallstøttede restaureringer

Sandblås restaureringsoverflaten (parametre ifølge produsentens instruksjoner) inntil det oppnås en jevn, matt overflate.

Harpiksbaserte (Telio CAD/Telio Lab) restaureringer

Sandblås de indre restaureringsoverflatene (parametre ifølge produsentens instruksjoner). For Telio Lab / Telio CAD bruk Al 1 – 2 bars (15 – 29 psi) trykk.

Etter overflatebehandling skyller du restaureringer og abutments grundig med vannspray og tørker med oljefri luft. Ved behov rengjør du restaureringen i en ultrasonisk enhet i omtrent ett minutt.

– Hvis restaureringen ikke kan fjernes med konvensjonelle metoder, opp-

nås tilgang til skruekanalen ved hjelp av trepanering.

– Ekstrudering av materiale uten blandespissen på plass kan føre til

krysskontaminering av Telio CS Cem Implant-komponentene.

– Som alle andre kompositter utsettes Telio CS Cem Implant for oksyge-

ninhibiering. Derfor kan ikke herdingstiden til sementen ved blanding med en blandepute utenfor munnen tas som referanse for den intraorale herdingsatferden.

Advarsel

– Unngå kontakt mellom uherdet materiale og hud, slimhinner eller øyne.

Upolymerisert Telio CS Cem Implant kan forårsake lett irritasjon, og i svært sjeldne tilfeller kan sensitisering oppstå hvis huden eksponeres gjentatte ganger.

– Kommersielle medisinske hansker gir ikke beskyttelse mot sensitise-

ringsvirkningen til metakrylater.

Bearbeidingstid

Ved romtemperatur (23 °C / 73 °F) ca. 2,5 til 3 minutter, intraoralt ved kroppstemperatur (37 °C / 98 °F) ca. 1,5 – 2 minutter.

Herdingstid

Selvherding: Ved kroppstemperatur (37 °C / 98 °F) ca. 3 minutter. Eksponering for lys fra en lysherdingsenhet vil akselerere polymeriseringsprosessen.

Oppbevaring

– Holdbarhet: Se utløpsdato på etiketten/pakningen – Må ikke brukes etter den indikerte utløpsdatoen. – Oppbevares ved 2 – 8 °C / 36 – 46 ºF. – Skal kun brukes ved romtemperatur (nedkjølt materiale er mer viskøst

og tar lenger tid å herde).

Oppbevares utilgjengelig for barn! Bare til odontologisk bruk!

, 100µm, ved

2O3

Bruksanvisningen er utarbeidet: 09/2011, Rev. 0

rodusent

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

Produktet er utviklet til bruk på det odontologiske området og må brukes i henhold til bruksanvisningen. Produsenten påtar seg intet ansvar for skader som oppstår på grunn av annen bruk eller ufagmessig bearbeiding. I tillegg er brukeren forpliktet til på forhånd og på eget ansvar å undersøke om produktene egner seg og kan brukes til de tiltenkte formål, særlig dersom disse formålene ikke er oppført i bruksanvisningen.

Telio®CS Cem Implant

Nederlands

Productinformatie

Omschrijving

Telio®CS Cem Implant is een röntgenopaak, zelfuithardend composietcement, met de optie van lichtuitharding, voor de esthetische, tijdelijke, reversibele/semipermanente bevestiging van restauraties op implantaatabutments. Telio CS Cem Implant kan worden gebruikt voor het cementeren van metaalondersteunde langetermijnprovisoria (bijv. Telio Lab), metaalvrije langetermijnprovisoria (bijv. Telio CAD) en voor het cementeren van definitieve kronen en bruggen (met metalen of zirkoniumoxideondersteuning). Telio CS Cem Implant is ontwikkeld voor een draagtijd van 6 maanden en langer.

Kleur

Transparant, opaak

Samenstelling

Telio CS Cem Implant bestaat uit bismethacrylaten (52 gewichtsprocent) en vulstoffen (46 gewichtsprocent). Daarnaast zijn initiatoren, stabilisatoren hulpstoffen en pigmenten toegevoegd.

Indicaties

Reversibele/semipermanente plaatsing van langetermijnprovisoria en definitieve restauraties op implantaatabutments.

Contra-indicaties

Bij bekende allergie tegen een van de bestanddelen van Telio CS Cem Implant dient van toepassing te worden afgezien. – toepassing op natuurlijke stompen – ongeschikte abutmentopbouw – abutments moeten als volgt zijn opgebouwd:

– geen abutmentpreparatie met parallelle wanden – conventionele retentieve vorm

Bijwerkingen

Bepaalde bestanddelen van Telio CS Cem Implant kunnen in uitzonderlijke gevallen tot overgevoeligheid leiden bij personen die daarvoor aanleg hebben. In deze gevallen moet van verdere toepassing van het materiaal worden afgezien.

Interacties

Fenolachtige stoffen (bijv. eugenol) remmen de polymerisatie. Maak daarom geen gebruik van producten die dergelijke componenten bevatten.

oepassing

1) Verwijder de dop van de tweecomponentenspuit door hem een kwartslag tegen de klok in te draaien (gooi de dop weg, niet opnieuw gebruiken!) en vervang hem door een mengcanule. Plaats bij een reeds gebruikte tweecomponentenspuit de nieuwe mengcanule pas vlak voor Telio CS Cem Implant uit de verpakking wordt gedrukt.

2) Let er bij het plaatsen van de mengcanule op dat de geleidingen op de tweecomponentenspuit en de mengcanule met elkaar overeenstemmen. Schuif de canule daarbij geheel naar beneden tot de groeven op de mengcanule en de tweecomponentenspuit elkaar raken. Houd de gekleurde basis vast en zet de canule vast door deze een kwartslag met de klok mee te draaien. De Telio CS Cem Implant basis- en katalysatorpasta zijn in de tweecomponentenspuit gebruiksklaar gedoseerd en worden bij het uitdrukken in de canule gemengd. Telio CS Cem Implant kan daardoor direct in de te cementeren restauratie worden geappliceerd.

3) Telio CS Cem Implant wordt op de schone en droge inwendige vlakken van de te cementeren restauratie geappliceerd. De oppervlakken moeten altijd vrij zijn van olie en stof. De verwerkingstijd bedraagt bij kamertemperatuur (23 °C) ca. 2,5 à 3 minuten.

4) Plaats de restauratie en verwijder overtollig cement.

Breng de restauratie met lichte druk op het abutment/de abutments aan. Overtollig materiaal kan met verschillende methoden worden verwijderd:

4a) Verwijderen van overtollig materiaal door middel van extra

lichtuitharding (kwartentechniek)

Hard overtollig cementmateriaal uit met een polymerisatielamp (ca. 650 mW/cm 4 sec. per kwartgedeelte van het element (mesio-oraal, disto-oraal, mesiobuccaal, distobuccaal), op een afstand van ca. 0 à 10 mm. In de taai-plastische toestand die het materiaal daardoor krijgt, kan het gemakkelijk worden verwijderd met een implantaatscaler. Belicht vervolgens alle randen nog eens 10 seconden lang met een polymerisatieapparaat (>1000mW/cm stand). Gebruik een glycerinegel (bijv. Liquid Strip) om een inhibitielaag te voorkomen.

4b) Verwijderen van overtollig materiaal in niet-uitgeharde

toestand

Verwijder overtollig, niet uitgehard materiaal direct na plaatsing met een microbrush, penseel, pellet van schuimplastic, tandzijde of een implantaatscaler. Wacht daarna tot de zelfuitharding is voltooid (na ca. 2 minuten) of hard het materiaal optioneel versneld uit door middel van licht, gedurende 10 seconden per vlak (>1000mW/cm

4c) Verwijderen van overtollig materiaal in uitgeharde toestand

Verwijder overtollig cement na ca. 3 minuten zorgvuldig met een implantaatscaler of een ander instrument.

Laat de gebruikte mengcanule op de spuit zitten tot u de spuit de volgende keer weer gebruikt!

, bijv. bluephase in de LOW-stand) gedurende 2 à

; bijv. bluephase in de HIGH-

; bijv. bluephase in de HIGH-stand).

peciale opmerkingen

– Vanwege de vele factoren die invloed hebben op de bevestiging van

restauraties op implantaatabutments (bijv. de hoogte en vorm van het abutment, de oppervlaktegesteldheid, de pasvorm van de restauratie etc.) kan de restauratie vroegtijdig loslaten of zich te sterk hechten aan het abutment. Als de restauratie vroegtijdig loslaat, kan het oppervlak van zowel de restauratie als het abutment worden opgeruwd voor een betere hechting. De behandeling van het abutment moet altijd extraoraal worden gedaan.

Zirkoniumoxide

Straal het oppervlak af (zie de instructies van de fabrikant voor de benodigde parameters).

Metalen of metaalondersteunde restauraties

Straal het oppervlak af (zie de instructies van de fabrikant voor de benodigde parameters) tot het oppervlak gelijkmatig en mat is.

Restauraties op basis van kunststoffen (Telio Lab / Telio CAD)

Straal de inwendige vlakken van de restauratie af (zie de instructies van de fabrikant voor de benodigde parameters. Bij Telio Lab / Telio CAD 1 à 2 bar, 100 µm Al

Spoel de restauraties en abutments na de oppervlaktebehandeling altijd goed schoon met waterspray en droog ze met olievrije lucht. Reinig ze eventueel in een ultrasone unit, gedurende ongeveer 1 minuut.

– Als de restauratie niet op een conventionele manier kan worden ver-

wijderd, wordt er door middel van trepanatie een toegang gemaakt tot het schroefkanaal.

– Als bij het doseren van het materiaal geen mengcanules worden

gebruikt, kan er kruisbesmetting van Telio CS Cem Implant plaatsvinden.

– Telio CS Cem Implant is net als alle composieten onderhevig aan zuur-

stofinhibitie. Daarom is het mengen op een mengblok buiten de mond geen geschikte referentie voor de intraorale uitharding.

Waarschuwingen

– Vermijd aanraking van niet uitgehard materiaal met de huid, de slijm-

vliezen en de ogen. Telio CS Cem Implant kan in niet-uitgeharde toestand een licht irriterende werking hebben en in uitzonderlijke gevallen bij herhaaldelijk contact met de huid tot overgevoeligheid leiden.

– In de handel verkrijgbare medische handschoenen bieden geen

bescherming tegen het sensibiliserende effect van methacrylaten.

Verwerkingstijd

Op kamertemperatuur (23 °C) ca. 2,5 à 3 minuten, intraoraal op lichaamstemperatuur (37 °C) ca. 1,5 à 2 minuten.

Uithardingstijd

Zelfuitharding: op lichaamstemperatuur (37 °C) ca. 3 minuten Bestraling met een polymerisatielamp versnelt het uithardingsproces.

2O3

peciale voorzorgsmaatregelen bij opslag en transport

– Houdbaarheid: zie de vervaldatum op het etiket/de verpakking – Niet meer gebruiken na afloop van de vervaldatum. – Bewaartemperatuur 2 à 8°C – Alleen bij kamertemperatuur verwerken (gekoeld materiaal is

stroperiger en hardt langzamer uit).

Buiten bereik van kinderen bewaren! Alleen voor tandheelkundig gebruik!

Datum van opstelling van de tekst: 09/2011, Rev. 0

Fabrikant

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

Het product is ontwikkeld voor tandheelkundig gebruik en moet volgens de productinformatie worden toegepast. Indien er schade optreedt door toepassing voor andere doeleinden of door verkeerd gebruik kan de fabrikant daarvoor niet aansprakelijk worden gesteld. De gebruiker is bovendien verplicht om vóór gebruik na te gaan of de producten voor de beoogde toepassing geschikt is, vooral als deze toepassing niet in de productinformatie staat vermeld.

Telio®CS Cem Implant

Ελληνικά

Oδηγίεσ Xρήσεωσ

Περιγραφή

Τo Telio®CS Cem Implant είναι µια ακτινoσκιερή αυτoπoλυµεριζµενη ρητινώδησ κoνία µε επιλoγή φωτoπoλυµερισµoύ για την αισθητική, πρoσωρινή, αναστρέψιµη / ηµιµνιµη στερέωση απoκαταστάσεων σε κoλoβώµατα εµφυτευµάτων. Τo Telio CS Cem Implant είναι κατάλληλo για παρατεταµένεσ πρoσωρινέσ απoκαταστάσεισ στηριζµενεσ σε µέταλλo (π.χ. Telio Lab) και χωρίσ µέταλλo (π.χ. Telio CAD), καθώσ και για µνιµεσ στεφάνεσ και γέφυρεσ (στηριζµενεσ σε µέταλλo, στηριζµενεσ σε oξείδιoτoυ ζιρκoνίoυ). Τo Telio CS Cem Implant έχει σχεδιαστεί για να παραµένει στo στµα για 6 µήνεσ και περισστερo.

Απoχρώσεισ

∆ιαφανέσ, αδιαφανέσ

Σύνθεση

Τo Telio CS Cem Implant απoτελείται απ δισµεθακρυλικά (περ. 52 % κ.β.) και ενισχυτικέσ oυσίεσ (περ. 46 % κ.β.). Ενεργoπoιητέσ, σταθερoπoιητέσ, έκδoχα και χρωστικέσ είναι πρσθετεσ oυσίεσ.

Ενδείξεισ

Αναστρέψιµη / ηµιµνιµη στερέωση παρατεταµένων πρoσωρινών και µνιµων απoκαταστάσεων σε κoλoβώµατα εµφυτευµάτων.

Αντενδείξεισ

Η χρήση τoυ Telio CS Cem Implant αντενδείκνυται εάν είναι γνωστ τι o ασθενήσ είναι αλλεργικσ σε κάπoιo απ τα συστατικά τoυ Telio CS Cem Implant – Εφαρµoγή στη φυσική δoµή τoυ δoντιoύ – Ακατάλληλoσ σχεδιασµσ τoυ κoλoβώµατoσ –Oσχεδιασµσ τoυ κoλoβώµατoσ πρέπει να πληρoί τισ ακλoυθεσ

απαιτήσεισ: –χι παρασκευή παράλληλων τoιχωµάτων τoυ κoλoβώµατoσ – Συµβατικ σχήµα συγκράτησησ.

Παρενέργειεσ

Σε σπάνιεσ περιπτώσεισ, τα συστατικά τoυ Telio CS Cem Implant µπoρεί να πρoκαλέσoυν αντίδραση ευαισθητoπoίησησ σε ασθενείσ µε υπερευαισθησία σε κάπoιo απ τα συστατικά τoυ υλικoύ. Τo Telio CS Cem Implant δεν πρέπει να χρησιµoπoιείται σε αυτέσ τισ περιπτώσεισ.

Αλληλεπιδράσεισ

αινoλικέσ oυσίεσ (π.χ. ευγενλη) αναχαιτίζoυν τoν πoλυµερισµ.

Φ Συνεπώσ, η εφαρµoγή υλικών πoυ περιέχoυν τέτoιεσ oυσίεσ πρέπει να απoφεύγεται.

Χρήση

1) Αφαιρέστε τo καπάκι τησ σύριγγασ µε τo διπλ έµβoλo στρέφoντασ κατά 1/4 τησ στρoφήσ αντίθετα µε τη φoρά των δεικτών τoυ ρoλoγιoύ (πετάξτε τo καπάκι, µην τoξαναχρησιµoπoιή- σετε!) και τoπoθετήστε στη θέση τoυ ένα ρύγχoσ ανάµιξησ. Εάν η σύριγγα µε τo διπλ έµβoλo έχει ξαναχρησιµoπoιηθεί, τoπoθετήστε ένα καινoύριo ρύγχoσ ανάµιξησ ακριβώσ πριν την εφαρµoγή τoυ Telio CS Cem Implant.

2) ταν εφαρµζεται τo ρύγχoσ ανάµιξησ στη σύριγγα, βεβαιωθείτε τι η κατεύθυνση τησ σύριγγασ είναι ευθυγραµµισµένη µε τo ρύγχoσ. Πιέστε τo άκρo πρoσ τα κάτω µέχρι η εγκoπή τoυ ρύγχoυσ να είναι ευθυγραµµισµένη µε τη σύριγγα. Ασφαλίστε τo ρύγχoσ ανάµιξησ κρατώντασ την έγχρωµη βάση και περιστρέφoντάσ κατά 1/4 τησ στρoφήσ πρoσ τη φoρά των δεικτών τoυ ρoλoγιoύ. Η σύριγγα µε τo διπλ έµβoλo περιέχει πρoδoσoλoγηµένεσ πoστητεσ βάσησ και καταλύτη Telio CS Cem Implant πoυ αναµιγνύoνται αυτµατα και εξωθoύνται ταυτχρoνα. Έτσι, τo Telio CS Cem Implant µπoρεί να εφαρµoστεί απευθείασ µέσα στην απoκατάσταση.

3) Εφαρµστε τo Telio CS Cem Implant στισ καθαρέσ και στεγνέσ εσωτερικέσ επιφάνειεσ τησ απoκατάστασησ. Oι επιφάνειεσ δεν πρέπει να έχoυν έλαια και σκνη σε καµία στιγµή. O χρνoσ εργασίασ σε θερµoκρασία δωµατίoυ (23 °C / 73 °F) είναι περ. 2,5 έωσ 3 λεπτά.

4) Τoπoθέτηση τησ απoκατάστασησ και αφαίρεση τησ περίσσιασ κoνίασ:

Εδράστε την πρoσωρινή απoκατάσταση επάνω στoκoλβωµα(τα) µε ελαφρά πίεση. Η περίσσια κoνία µπoρεί να αφαιρεθεί χρησιµoπoιώντασ διάφoρεσ µεθδoυσ:

4α) Αφαίρεση τησ περίσσειασ µε πρσθετη ενεργoπoίηση φωτσ

(τεχνική τετάρτoυ):

Φωτoπoλυµερίστε τo περίσσιo υλικ µε µια λυχνία πoλυµερισµoύ (περ. 650 mW/cm λειτoυργίασ LOW) για 2 – 4 δευτερλεπτα ανά τέταρτo επιφανείασ (εγγύσ-στoµατική, άπω στoµατική, εγγύσ παρειακή, άπω παρειακή) σε απσταση περ. 0 – 10 mm. Ακoλoυθώντασ αυτήν τη διαδικασία, τo περίσσιo υλικ µπoρεί να αφαιρεθεί εύκoλα µε ένα δρέπανo, καθώσ παρoυσιάζει ιξωδoελαστική σύσταση. Στη συνέχεια, φωτoπoλυµερίστε λα τα ρια ξανά για 10 δευτερλεπτα (>1000 mW/cm2, π.χ. bluephase στην κατάσταση λειτoυργίασ HIGH). Συνιστάται η χρήση ζελ γλυκερίνησ (π.χ. Liquid Strip) πρoκειµένoυ να απoτραπεί τo αναχαιτιστικ στρώµα.

4β) Αφαίρεση τησ περίσσειασ στη µη πoλυµερισµένη κατάσταση:

Αφαιρέστε τo µη πoλυµερισµένo περίσσιo υλικ αµέσωσ µετά την έδραση, χρησιµoπoιώντασ microbrush / πινελάκι / αφρώδεσ σφαιρίδιo / oδoντικ νήµα ή δρέπανo. Στη συνέχεια,

, π.χ. bluephase στην κατάσταση

περιµένετε να oλoκληρωθεί η διαδικασία αυτoπoλυµερισµoύ

περ. 2 λεπτά) ή επιταχύνετε τη διαδικασία πoλυµερισµoύ

( φωτoπoλυµερίζoντασ τη στoιβάδα τησ κoνίασ µε µια λυχνία πoλυµερισµoύ (>1.000 mW/cm ση λειτoυργίασ HIGH) επί 10 δευτερλεπτα ανά επιφάνεια.

4γ) Αφαίρεση τησ περίσσειασ στην πoλυµερισµένη κατάσταση:

Περίπoυ 3 λεπτά µετά την έδραση τησ απoκατάστασησ, αφαιρέστε τo περίσσιo υλικ πρoσεκτικά µε ένα δρέπανo ή άλλo κατάλληλo εργαλείo.

Αφήνετε τo χρησιµoπoιηµένo ρύγχoσ ανάµιξησ στη σύριγγα. Χρησιµεύει ωσ καπάκι µέχρι την επµενη εφαρµoγή.

Σηµειώσεισ

–Λγω των διαφρων παραγντων πoυ επηρεάζoυν τo απoτέλεσµα

κατά τη στερέωση απoκαταστάσεων σε κoλoβώµατα εµφυτευµάτων (π.χ. ύψoσ και διαστάσεισ τoυ κoλoβώµατoσ, υφή τησ επιφάνειασ, εφαρµoγή τησ απoκατάστασησ κτλ.), ενδέχεται να συµβεί πρωρη απoκλληση ή να δηµιoυργηθεί πoλύ ισχυρσ δεσµσ µεταξύ τoυ κoλoβώµατoσ και τησ απoκατάστασησ.

Σε περίπτωση πρωρησ απoκλλησησ, η πρσφυση µπoρεί να βελτιωθεί τρoχίζoντασ τισ επιφάνειεσ τησ απoκατάστασησ και τoυ κoλoβώµατoσ. Η επεξεργασία τoυ κoλoβώµατoσ πρέπει να διενεργείται πάντoτε έξω απτoστµα.

Oξείδιoτoυ ζιρκoνίoυ

Αµµoβoλίστε τισ επιφάνειεσ (παράµετρoι σύµφωνα µε τισ oδηγίεσ τoυ κατασκευαστή).

Μεταλλικέσ ή στηριζµενεσ σε µέταλλo απoκαταστάσεισ

Αµµoβoλίστε την επιφάνεια τησ απoκατάστασησ (παράµετρoι σύµφωνα µε τισ oδηγίεσ τoυ κατασκευαστή) µέχρι να επιτευχθεί µία oµαλή µατ επιφάνεια.

Απoκαταστάσεισ µε βάση ρητίνη (Telio CAD / Telio Lab)

Αµµoβoλίστε τισ εσωτερικέσ επιφάνειεσ τησ απoκατάστασησ (παράµετρoι σύµφωνα µε τισ oδηγίεσ τoυ κατασκευαστή). Για Telio Lab / Telio CAD, χρησιµoπoιήστε Al (15 – 29 psi).

Μετά την επεξεργασία τησ επιφάνειασ, ξεπλύνετε διεξoδικά τισ απoκαταστάσεισ και τα κoλoβώµατα µε καταιoνισµ νερoύ και στεγνώστε µε αέρα πoυ δεν περιέχει έλαια. Εάν είναι απαραίτητo, καθαρίστε την απoκατάσταση σε συσκευή υπερήχων για περίπoυ ένα λεπτ.

– Εάν η απoκατάσταση δεν µπoρεί να αφαιρεθεί µε συµβατικέσ

µεθδoυσ, πρσβαση στo κανάλι τησ βίδασ επιτυγχάνεται µέσω τρυπανισµoύ.

–Εξώθηση τoυ υλικoύ χωρίσ τo ρύγχoσ ανάµιξησ µπoρεί να oδηγή-

σει σε διασταυρoύµενη µλυνση των συστατικών τoυ Telio CS Cem Implant.

–πωσ λα τα σύνθετα υλικά, oπoλυµερισµσ τoυ Telio CS Cem

Implant αναχαιτίζεται απ την παρoυσία oξυγνoυ. Για τoν λγo αυτ, o χρνoσ σκλήρυνσησ τησ κoνίασ ταν αναµιγνύεται σε πλα-

, π.χ. bluephase στην κατάστα-

, 100µm, σε πίεση 1 – 2 bar

2O3

κίδιo ανάµιξησ έξω απτoστµα δεν µπoρεί να χρησιµoπoιηθεί

σ σηµείo αναφoράσ για τη συµπεριφoρά σκλήρυνσησ µέσα στo

ω στµα.

Πρoειδoπoίηση

– Η επαφή απoλυµέριστoυ υλικoύ µε τo δέρµα, τoυσ βλεννoγνoυσ

ή τα µάτια πρέπει να απoφεύγεται. Τo µη πoλυµερισµένo Telio CS Cem Implant µπoρεί να έχει ελαφρώσ ερεθιστικέσ επιπτώσεισ. Σε πoλύ σπάνιεσ περιπτώσεισ, αλλεργικέσ αντιδράσεισ µπoρεί να συµβoύν µετά απ συνεχείσ εκθέσεισ στα συστατικά αυτά.

– Τα ιατρικά γάντια τoυ εµπoρίoυ δεν παρέχoυν πρoστασία απ την

ευαισθησία στα µεθακρυλικά.

Χρνoσ εργασίασ

Σε θερµoκρασία δωµατίoυ (23 °C / 73 °F) περ. 2,5 έωσ 3 λεπτά, ενδoστoµατικά σε θερµoκρασία σώµατoσ (37 °C / 98 °F) περ. 1,5 – 2 λεπτά.

Χρνoσ πoλυµερισµoύ

Αυτoπoλυµερισµσ: Σε θερµoκρασία σώµατoσ (37 °C / 98 °F) περ. 3 λεπτά. Η έκθεση στo φωσ απ µια µoνάδα φωτoπoλυµερισµoύ θα επιταχύνει τη διεργασία πoλυµερισµoύ.

Απoθήκευση

– ∆ιάρκεια ζωήσ: βλ. την ηµερoµηνία λήξησ στην ετικέτα/συσκευα-

σία

– Μη χρησιµoπoιείτε τo πρoϊν µετά την αναγραφµενη ηµερoµηνία

λήξησ.

– Απoθηκεύετε τo πρoϊν σε θερµoκρασία 2 – 8 °C / 36 – 46 °F

-Χρησιµoπoιείτε τo πρoϊν σε θερµoκρασία δωµατίoυ (ψυχρ υλικ έχει υψηλιξώδεσ και παρoυσιάζει βραδύτερη σκλήρυνση).

Αποθηκεύετε µακριά απ παιδιά! Μνο για οδοντιατρική χρήση!

Ηµεροµηνία προετοιµασίασ των οδηγιών: 09/2011, Rev. 0

Παράγεται στο Liechtenstein

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

Το προϊν αυτ κατασκευάστηκε αποκλειστικά για οδοντιατρική χρήση. Οι διαδικασίεσ πρέπει να ακολουθούνται σχολαστικά και ακολουθώντασ αυστηρά τισ οδηγίεσ χρήσεωσ. Απαιτήσεισ για βλάβεσ που µπορεί να προκληθούν απ µη ορθή ακολουθία των οδηγιών ή απ χρήση σε µη ρητώσ ενδεικνυµενη περιοχή, είναι απαράδεκτεσ. Ο χρήστησ είναι υπεύθυνοσ για δοκιµασίεσ καταλληλτητασ του υλικού σε οποιαδήποτε άλλη εφαρµογή εκτσ αυτών που αναγράφονται σαφώσ στισ οδηγίεσ χρήσεωσ. Περιγραφέσ και στοιχεία δεν αποτελούν εγγύηση των ιδιοτήτων και δεν είναι δεσµευτικά.

Telio®CS Cem Implant

Türkçe

Kullanım Bilgileri

Tanımı

CS Cem Implant, implant abutmentleri üzerine estetik, geçici, rever-

Telio sibl / yarı kalıcı simantasyon yapmak amacıyla kullanılan, kendili¤inden ve opsiyonel olarak ıﬂıkla sertleﬂen, radyoopak bir kompozit simandır. Telio CS Cem Implant uzun süre kullanılan metal destekli (örn. Telio Lab) ve metalsiz (örn. Telio CAD) geçici restorasyonların simantasyonunda ve definitif kuron ve köprülerin (metal, zirkonyum oksit destekli) simantasyonunda kullanılabilir. Telio CS Cem Implant a¤ızda 6 ay ve daha fazla kalacak ﬂekilde tasarlanmıﬂtır.

Renk

Transparan, Opak

Bileﬂimi

Telio CS Cem Implant bismetakrilatlardan (a¤ırlıkça yaklaﬂık % 52) ve dolgu maddelerinden oluﬂur (a¤ırlıkça yaklaﬂık % 46). Ayrıca baﬂlatıcılar, stabilizatörler, yardımcı maddeler ve pigmentler içerir.

Endikasyonlar

Uzun süre kullanılan geçici restorasyonlar ile kalıcı restorasyonların implant abutmentleri üzerine reversibl / yarı kalıcı simantasyonu.

Kontrendikasyonlar

Telio CS Cem Implant'ın içerdi¤i maddelere karﬂı bilinen alerji olması durumunda ürün kullanılmamalıdır. – Do¤al güdüklerin üzerine uygulanması – Abutment tasarımının uygun olmaması – Abutment tasarımında istenenler ﬂunlardır:

– Abutmentin paralel duvarlı olarak hazırlanmıﬂ olmaması – Konvansiyonel retantif ﬂekilli olması

Yan etkiler

Telio CS Cem Implant'ın bileﬂenleri nadir hallerde e¤ilimli kiﬂilerde duyarlılık oluﬂturabilir. Bu gibi durumlarda daha fazla kullanmaktan kaçınılmalıdır.

Etkileﬂimleri

Fenolik maddeler (örn. öjenol) polimerizasyon iﬂlemini baskılamaktadır. Bu yüzden bu bileﬂenleri içeren ürünler kullanılmamalıdır.

Uygulama

1) Çift pistonlu ﬂırınganın ucundaki kapa¤ı saat yönünün tersine çeyrek tur döndürerek çıkarın (kapa¤ı atın, tekrar kullanmayın!) ve yerine bir karıﬂtırma ucu takın. E¤er çift pistonlu ﬂırınga daha önce kullanılmıﬂsa, eski karıﬂtırma ucu Telio CS Cem Implant kullanılmadan hemen önce yenisiyle de¤iﬂtirilir.

2) Karıﬂtırma ucunu takarken çift pistonlu ﬂırıngadaki kılavuzun karıﬂtırma ucundakine karﬂı gelmesine dikkat edin. Bunun için, karıﬂtırma ucu ile çift pistonlu ﬂırınganın üzerindeki çentikler bitiﬂinceye kadar karıﬂtırma ucunu tamamen aﬂa¤ıya itin. Karıﬂtırma ucunu renkli tabanından tutarak saat yönünde çeyrek tur döndürün ve yerine sabitleyin. Telio CS Cem Implant'ın baz ve katalizör macunları çift pistonlu ﬂırıngada uygun oranda karıﬂıma hazır bir ﬂekilde dozlanır ve ﬂırınga sıkılınca ucun içerisinde birbiriyle karıﬂır. Telio CS Cem Implant böylece direkt olarak simanlanacak restorasyonun içine uygulanabilir.

3) Telio CS Cem Implant simanlanacak restorasyonun temiz ve kuru iç yüzeylerine uygulanır. Yüzeylerin daima ya¤sız ve tozsuz olması gerekmektedir. Çalıﬂma süresi oda sıcaklı¤ında (23°C) yaklaﬂık 2,5 – 3 dakikadır.

4) Restorasyonun yerleﬂtirilmesi ve siman fazlalarının alınması:

Restorasyonu hafif baskı uygulayarak abutment(ler)e yerleﬂtirin. Siman fazlaları farklı yöntemlerle alınabilir:

4a) Fazlaların ek ıﬂık aktivasyonuyla (çeyrek tekni¤i) alınması

Siman fazlalıklarını bir polimerizasyon lambası aracılı¤ıyla (örn. bluephase, LOW-modu, yakl. 650 mW/cm lıktan çeyrek yüzey baﬂına 2 – 4 sn ıﬂınlayarak (mesiooral, distooral, mesiobukkal, distobukkal) sertleﬂtirin. Böylece fazlalıklar viskoplastik bir kıvama gelir ve bir implant skaleri aracılı¤ıyla kolayca temizlenebilir. Bundan sonra tüm kenarları tekrar 10 saniye polimerizasyon cihazıyla sertleﬂtirin (örn. bluephase, HIGHModu, >1000 mW/cm2). ‹nhibisyon tabakası oluﬂmasını önlemek için gliserin jeli (örn. Liquid Strip) kullanılması tavsiye edilir.

4b) Polimerize olmayan durumda fazlaların alınması

Restorasyonu yerleﬂtirdikten hemen sonra sertleﬂmemiﬂ siman fazlalarını bir mikrofırça / fırça / köpük pellet / dental ip veya implant skaleri ile giderin. Ardından kendili¤inden sertleﬂme süreci bitinceye kadar bekleyin (yaklaﬂık 2 dakika) ya da iste¤e göre yüzey baﬂına 10 saniye ıﬂıkla polimerizasyon uygulayarak süreci hızlandırın (örn. bluephase, HIGH-modu, >1000 mW/cm

4c) Polimerize durumda fazlaların alınması

Yaklaﬂık 3 dakika sonra siman fazlalarını bir implant skaleri veya baﬂka bir alet aracılı¤ıyla dikkatle giderin.

Kullanılmıﬂ karıﬂtırma ucunu bir sonraki kullanıma kadar kapak olarak ﬂırınganın ucunda bırakın!

Notlar

– Restorasyonların abutment üstüne simanlanmasında çok sayıda faktö-

rün etkili olması nedeniyle (örn. abutmentin yüksekli¤i ve geometrisi, yüzey niteli¤i, restorasyonun uyum hassasiyeti vs.) restorasyonun zamanından önce çıkması ya da abutment ile restorasyon arasında aﬂırı güçlü bir ba¤lantı oluﬂması mümkündür.

) yakl. 0 – 10 mm uzak-

Zamanından önce çıkma durumunda restorasyon ve abutment yüzeylerinin pürüzlülü¤ü artırılarak ba¤lantı güçlendirilebilir. Abutment üzerindeki iﬂlemlerin daima ekstraoral yapılması gerekmektedir.

Zirkonyum oksit

Yüzeyi kumlayın (kumlama parametreleri üreticinin talimatlarına uygun olmalıdır.)

Metal veya metal destekli restorasyonlar

Eﬂit ﬂekilde mat bir yüzey oluﬂuncaya kadar yüzeyi kumlayın (kumlama parametreleri üreticinin talimatlarına uygun olmalıdır).

Kompozit esaslı restorasyonlar (Telio Lab / Telio CAD)

Restorasyonun iç yüzeylerini kumlayın (kumlama parametreleri üreticinin talimatlarına uygun olmalıdır. Telio Lab / Telio CAD için 1 – 2 bar, 100µm Al

)

2O3

Yüzey iﬂlemlerinin ardından restorasyonları ve abutmentleri daima su spreyiyle iyice yıkayın ve ya¤ içermeyen havayla kurutun. Gerekli hallerde bir ultrason cihazında 1 dakika kadar temizleyin.

– Restorasyonun konvansiyonel yöntemlerle çıkarılamaması durumunda

vida kanalına ulaﬂmak için trepanasyon uygulanması gereklidir.

– Karıﬂtırma ucu olmaksızın materyal sıkılması Telio CS Cem Implant'ın

çapraz kontaminasyonuna neden olabilir.

– Bütün kompozitler gibi Telio CS Cem Implant da oksijen inhibisyonuna

tabidir. Bu nedenle a¤zın dıﬂında, bir karıﬂtırma pedinin üzerinde karıﬂtırılması intraoral sertleﬂme açısından referans de¤ildir.

Uyarılar

– Polimerize olmamıﬂ materyalin cilde/mukoza zarlarına ve gözlere temas

etmesine engel olun. Telio CS Cem Implant sertleﬂmemiﬂ durumda hafif tahriﬂ edicidir. Ciltle tekrar tekrar temas etmesi nadir hallerde duyarlılı¤a yol açabilir.

– Ticari tıbbi eldivenler metakrilatların duyarlılık oluﬂturucu etkisine karﬂı

koruma sa¤lamaz.

Çalıﬂma zamanı

Oda sıcaklı¤ında (23 °C) yakl. 2,5 – 3 dakika, intraoral vücut sıcaklı¤ında (37 °C) yakl. 1,5 – 2 dakika.

Sertleﬂme süresi

Kendili¤inden sertleﬂme: Vücut sıcaklı¤ında (37°C) yakl. 3 dakika. Polimerizasyon lambasıyla ıﬂınlanması sertleﬂme sürecini hızlandırır.

Depolama ve saklama ile ilgili hususlar

– Raf ömrü için etiketin / ambalajın üzerindeki son kullanma tarihine

bakın. – Son kullanma tarihinden sonra kullanmayın. – 2 – 8°C sıcaklıkta muhafaza edin. – Sadece oda sıcaklı¤ında iﬂleyin (so¤utulmuﬂ materyalin viskozitesi daha

yüksektir ve daha yavaﬂ sertleﬂir)

Çocuklar›n ulaﬂamayaca¤› yerlerde saklanmal›d›r! Sadece diﬂhekimli¤i kullan›m› içindir!

ullanım bilgilerinin hazırlanış tarihi: 09/2011, Rev. 0

Üretici Firma:

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 Schaan/Liechtenstein

Ürün yalnızca diﬂ hekimli¤inde kullanılmak üzere geliﬂtirilmiﬂtir. Uygulamada, kullanma talimat›na riayet edilmelidir. Belirlenen kullan›m alan› ve kullanma talimat›n›n izlenmedi¤i durumlarda sorumluluk kabul edilmeyecektir. Ürünlerin bu talimatlarda açıkça belirtilmeyen herhangi bir amaç için uygunlu¤unu ve kullanımını test etmek kullanıcının kendi sorumlulu¤undadır. Tan›mlama ve bilgiler garanti anlam›na gelmedi¤i gibi bir ba¤layıcılı¤ı da yoktur.

Telio®CS Cem Implant

кЫТТНЛИ

àÌÒÚÛÍˆËﬂ

éÔËÒ‡ÌËÂ

CS Cem Implant - ˝ЪУ ВМЪ„ВМУНУМЪ‡ТЪМ˚И НУПФУБЛЪМ˚И ˆВПВМЪ

Telio ıЛПЛ˜ВТНУ„У УЪ‚ВК‰ВМЛﬂ Т УФˆЛУМ‡О¸МУИ ‚УБПУКМУТЪ¸˛ Т‚ВЪУ‚УИ ФУОЛПВЛБ‡ˆЛЛ ‰Оﬂ ˝ТЪВЪЛ˜ВТНУИ ‚ВПВММУ-‰УО„У‚ВПВММУИ ЩЛНТ‡ˆЛЛ М‡ ‡·‡ЪПВМЪ‡ı ЛПФО‡МЪУ‚. Telio CS Cem Implant ПУКМУ ЛТФУО¸БУ‚‡Ъ¸ ‰Оﬂ ‚ВПВММУИ ЩЛНТ‡ˆЛЛ НУМТЪЫНˆЛИ М‡ ПВЪ‡ООЛ˜ВТНУП Н‡Н‡ТВ (М‡ФЛПВ, Telio Lab) ЛОЛ ·ВБПВЪ‡ООУ‚˚ı НУМТЪЫНˆЛИ (М‡ФЛПВ, Telio CAD) ‰ОЛЪВО¸МУ„У МУ¯ВМЛﬂ, ‡ Ъ‡НКВ ‰Оﬂ ЩЛНТ‡ˆЛЛ ФУТЪУﬂММ˚ı НУУМУН Л ПУТЪУ‚Л‰М˚ı ФУЪВБУ‚ (М‡ Н‡Н‡ТВ ЛБ ПВЪ‡ОО‡ ЛОЛ УНТЛ‰‡ ˆЛНУМЛﬂ). Telio CS Cem Implant ·˚О ‡Б‡·УЪ‡М ‰Оﬂ ‚ВПВММ˚ı НУМТЪЫНˆЛИ ТУ ТУНУП МУ¯ВМЛﬂ 6 ПВТﬂˆВ‚ Л ·УОВВ.

ñ‚ÂÚ‡

èÓÁ‡˜Ì˚È, ÓÔ‡ÍÓ‚˚È

ëÓÒÚ‡‚

Telio CS Cem Implant ТУТЪУЛЪ ЛБ ·ЛТПВЪ‡НЛО‡ЪУ‚ (ФЛП. 52 % ФУ ‚ВТЫ) Л М‡ФУОМЛЪВОВИ (ФЛП. 46 % ФУ ‚ВТЫ). н‡НКВ ‚ П‡ЪВЛ‡ОВ ТУ‰ВК‡ЪТﬂ ЛМЛˆЛ‡ЪУ˚, ТЪ‡·ЛОЛБ‡ЪУ˚, ‚ТФУПУ„‡ЪВО¸М˚В ‚В˘ВТЪ‚‡ Л ФЛ„ПВМЪ˚.

èÓÍ‡Á‡ÌËﬂ:

ЗВПВММ‡ﬂ ЩЛНТ‡ˆЛﬂ Т ‰ОЛЪВО¸М˚П ТУНУП МУ¯ВМЛﬂ ФУТЪУﬂММ˚ı НУМТЪЫНˆЛИ М‡ ‡·‡ЪПВМЪ‡ı.

èÓÚË‚ÓÔÓÍ‡Á‡ÌËﬂ:

иЛ ЛБ‚ВТЪМУИ ‡ООВ„ЛЛ М‡ Н‡НЛВ-ОЛ·У НУПФУМВМЪ˚ П‡ЪВЛ‡О‡ Telio CS Cem Implant УЪ В„У ФЛПВМВМЛﬂ ТОВ‰ЫВЪ УЪН‡Б‡Ъ¸Тﬂ. – ФЛПВМВМЛВ М‡ КЛ‚˚ı НЫО¸Ъﬂı – МВ ФУ‰ıУ‰ﬂ˘‡ﬂ ЩУП‡ ‡·‡ЪПВМЪ‡. – Н ЩУПВ ‡·‡ЪПВМЪ‡ ФВ‰˙ﬂ‚Оﬂ˛ЪТﬂ ТОВ‰Ы˛˘ЛВ ЪВ·У‚‡МЛﬂ:

– ЩВБВУ‚‡МЛВ ‡·‡ЪПВМЪ‡ МВ ‰УОКМУ ‚˚ФУОМﬂЪ¸Тﬂ Т

Ф‡‡ООВО¸М˚ПЛ ТЪВМН‡ПЛ

– Ú‡‰ËˆËÓÌÌ‡ﬂ ÂÚÂÌˆËÓÌÌ‡ﬂ ÙÓÏ‡

èÓ·Ó˜ÌÓÂ ‰ÂÈÒÚ‚ËÂ

З В‰НЛı ТОЫ˜‡ﬂı НУПФУМВМЪ˚ Telio CS Cem Implant ПУ„ЫЪ ФЛ‚ВТЪЛ Н ˜Ы‚ТЪ‚ЛЪВО¸МУТЪЛ Ы Ф‡ˆЛВМЪУ‚, ЛПВ˛˘Лı Н МВИ ФВ‰‡ТФУОУКВММУТЪ¸. З ˝ЪЛı ТОЫ˜‡ﬂı УЪ ФУТОВ‰Ы˛˘В„У ФЛПВМВМЛﬂ П‡ЪВЛ‡О‡ ТОВ‰ЫВЪ УЪН‡Б‡Ъ¸Тﬂ.

ÇÁ‡ËÏÓ‰ÂÈÒÚ‚ËÂ Ò ‰Û„ËÏË ÔÂÔ‡‡Ú‡ÏË

оВМУО¸М˚В ‚В˘ВТЪ‚‡ (М‡ФЛПВ, ˝‚„ВМУО) Б‡ПВ‰Оﬂ˛Ъ ФУОЛПВЛБ‡ˆЛ˛, ФУ˝ЪУПЫ МВУ·ıУ‰ЛПУ ЛБ·В„‡Ъ¸ ФЛПВМВМЛﬂ П‡ЪВЛ‡ОУ‚, ТУ‰ВК‡˘Лı ФУ‰У·М˚В ‚В˘ВТЪ‚‡.

иЛПВМВМЛВ

1) б‡Ъ‚У Т‰‚УВММУ„У ¯ФЛˆ‡ УЪНЫЪЛЪ¸ М‡ 1/4 У·УУЪ‡ ФУЪЛ‚ ˜‡ТУ‚УИ ТЪВОНЛ (Б‡Ъ‚У ‚˚·УТЛЪ¸, ФУ‚ЪУМУ МВ ЛТФУО¸БУ‚‡Ъ¸!) Л Б‡ПВМЛЪ¸ М‡ ТПВ¯Л‚‡˛˘Ы˛ Н‡М˛О˛. ЦТОЛ ˝ЪУЪ Т‰‚УВММ˚И ¯ФЛˆ ЫКВ ЛТФУО¸БУ‚‡ОТﬂ, МВФУТВ‰ТЪ‚ВММУ ФВВ‰ ЛБ‚ОВ˜ВМЛВП МУ‚УИ ФУˆЛЛ П‡ЪВЛ‡О‡ Telio CS Cem Implant ФУТЪ‡‚ЛЪ¸ МУ‚Ы˛ ТПВ¯Л‚‡˛˘Ы˛ Н‡М˛О˛.

2) иЛ ФУТЪ‡МУ‚НВ ТПВ¯Л‚‡˛˘ВИ Н‡М˛ОЛ ТОВ‰ЛЪ¸ Б‡ ЪВП, ˜ЪУ·˚ М‡Ф‡‚Оﬂ˛˘ЛВ П‡ЪВЛ‡О‡ ‚ Т‰‚УВММУП ¯ФЛˆВ Л ТПВ¯Л‚‡˛˘ВИ Н‡М˛ОВ ТУУЪ‚ВЪТЪ‚У‚‡ОЛ. иЛ ˝ЪУП Н‡М˛О˛ Б‡‰‚ЛМЫЪ¸ ‚МЛБ, ‰У ЪВı ФУ, ФУН‡ МВ ТУ‚Ф‡‰ЫЪ П‡НЛУ‚НЛ М‡ Н‡М˛ОВ Л Т‰‚УВММУП ¯ФЛˆВ. ЗТЪ‡‚ЛЪ¸ ˆ‚ВЪМЫ˛ УТМУ‚Ы Л Б‡ЩЛНТЛУ‚‡Ъ¸ Н‡М˛О˛ ФУ‚УУЪУП М‡ 1/4 ФУ ˜‡ТУ‚УИ ТЪВОНВ. и‡ТЪ˚ ·‡Б˚ Л Н‡Ъ‡ОЛБ‡ЪУ‡ Telio CS Cem Implant ‚ ‰‚ЫıН‡ПВМУП ¯ФЛˆВ ЪУ˜МУ ‰УБЛУ‚‡М˚ Л „УЪУ‚˚ Н ФЛПВМВМЛ˛ ФУТОВ ТПВ¯Л‚‡МЛﬂ ‚ Н‡М˛ОВ. ЕО‡„У‰‡ﬂ ˝ЪУПЫ Telio CS Cem Implant ПУКМУ М‡ФﬂПЫ˛ М‡МУТЛЪ¸ М‡ ˆВПВМЪЛЫВПЫ˛ ВТЪ‡‚‡ˆЛ˛.

3) Telio CS Cem Implant М‡МУТЛЪТﬂ М‡ ˜ЛТЪ˚В Л ТЫıЛВ ‚МЫЪВММЛВ ФУ‚ВıМУТЪЛ ˆВПВМЪЛЫВП˚ı ВТЪ‡‚‡ˆЛИ. иУ‚ВıМУТЪЛ ‰УОКМ˚

·˚Ъ¸ ФУОМУТЪ¸˛ У˜Л˘ВМ˚ УЪ П‡ТО‡ Л Ф˚ОЛ. к‡·У˜ВВ ‚ВПﬂ ФЛ НУПМ‡ЪМУИ ЪВПФВ‡ЪЫВ (23°C) ТУТЪ‡‚ОﬂВЪ ФЛПВМУ УЪ 2.5 ‰У 3 ПЛМЫЪ.

4) иУТЪ‡МУ‚Н‡ НУМТЪЫНˆЛЛ Л Ы‰‡ОВМЛВ ЛБОЛ¯НУ‚ ˆВПВМЪ‡:

кВТЪ‡‚‡ˆЛﬂ ФУ‰ ОВ„НЛП ‰‡‚ОВМЛВП ЩЛНТЛЫВЪТﬂ М‡ ‡·‡ЪПВМЪВ (-‡ı). аБОЛ¯НЛ ˆВПВМЪ‡ ПУКМУ Ы‰‡ОﬂЪ¸ ‡БОЛ˜М˚ПЛ ТФУТУ·‡ПЛ.

4‡) м‰‡ОВМЛВ ЛБОЛ¯НУ‚ Т ФУПУ˘¸˛ ‰УФУОМЛЪВО¸МУИ ФУОЛПВЛ-

Á‡ˆËË (˜ÂÚ‚ÂÚÌ‡ﬂ ÚÂıÌËÍ‡).

б‡ФУОЛПВЛБЫИЪВ ЛБОЛ¯НЛ ˆВПВМЪ‡ Т‚ВЪУП (ФЛП.650 ПЗЪ/ТП М‡ФЛПВ, О‡ПФУИ bluephase®‚ ВКЛПВ LOW), М‡ ‡ТТЪУﬂМЛЛ ФЛП. 0 – 10 ПП ‚ ЪВ˜ВМЛВ 2 – 4 ТВН. М‡ Н‡К‰Ы˛ ˜ВЪ‚ВЪ¸ (ПВБЛУ-У‡О¸МУ, ‰ЛТЪУ-У‡О¸МУ, ПВБЛУ-·ЫНН‡О¸МУ, ‰ЛТЪУ-·ЫНН‡О¸МУ), ˜ЪУ У·ВТФВ˜ЛЪ ОВ„НУВ Ы‰‡ОВМЛВ ЛБОЛ¯НУ‚ Т ФУПУ˘¸˛ ТНВИОВ‡ ‰Оﬂ ЛПФО‡МЪУ‚, Ъ.Н. П‡ЪВЛ‡О ФВВИ‰ВЪ ‚ ‚ﬂБНУ-ФО‡ТЪЛ˜МУВ ТУТЪУﬂМЛВ. иУТОВ ˝ЪУ„У ФУ‚В‰ЛЪВ УНУМ˜‡ЪВО¸МЫ˛ ЩУЪУФУОЛПВЛБ‡ˆЛ˛ ФУ Н‡ﬂП ‚ ЪВ˜ВМЛВ 10 ТВНЫМ‰ (>1’000

, М‡ФЛПВ, О‡ПФУИ bluephase ‚ ВКЛПВ HIGH). ЗУ ЛБ·В-

ПЗЪ/ТП К‡МЛВ ФУﬂ‚ОВМЛВ ЛМ„Л·ЛУ‚‡ММУ„У ТОУﬂ ВНУПВМ‰ЫВЪТﬂ ЛТФУО¸БУ‚‡МЛВ „ОЛˆВЛМУ‚У„У „ВОﬂ (М‡ФЛПВ, Liquid Strip)

4·) м‰‡ОВМЛВ ЛБОЛ¯НУ‚ ‚ МВУЪ‚ВК‰ВММУП ТУТЪУﬂМЛЛ

м‰‡ОЛЪВ ЛБОЛ¯НЛ ˆВПВМЪ‡ ‚ МВУЪ‚ВК‰ВММУП ТУТЪУﬂМЛЛ МВФУТВ‰ТЪ‚ВММУ ФУТОВ ЩЛНТ‡ˆЛЛ Т ФУПУ˘¸˛ ПЛНУ·‡¯‡/НЛТЪУ˜НЛ/ „Ы·У˜НЛ/ЩОУТТ‡ ЛОЛ ТНВИОВ‡ ‰Оﬂ ЛПФО‡МЪУ‚. б‡ЪВП МВУ·ıУ‰ЛПУ ФУ‰УК‰‡Ъ¸ ‰У УНУМ˜‡МЛﬂ ФУˆВТТ‡ ıЛПЛ˜ВТНУ„У Ъ‚В‰ВМЛﬂ (ФЛП. 2 ПЛМЫЪ˚) ЛОЛ ФУ КВО‡МЛ˛ ЫТНУЛЪ¸ В„У Т‚ВЪУ‚УИ ФУОЛПВЛБ‡ˆЛВИ ФУ 10 ТВНЫМ‰ М‡ Н‡К‰Ы˛ ФУ‚ВıМУТЪ¸ (>1’000

, М‡ФЛПВ, О‡ПФУИ bluephase ‚ ВКЛПВ HIGH).

ÏÇÚ/ÒÏ

4‚) м‰‡ОВМЛВ ЛБОЛ¯НУ‚ ‚ УЪ‚ВК‰ВММУП ТУТЪУﬂМЛЛ

ДННЫ‡ЪМУ Ы·‡Ъ¸ ЛБОЛ¯НЛ ˆВПВМЪ‡ ФЛПВМУ ˜ВВБ 3 ПЛМЫЪ˚ Т ФУПУ˘¸˛ ТНВИОВ‡ ‰Оﬂ ЛПФО‡МЪУ‚ ЛОЛ ‰Ы„У„У ЛМТЪЫПВМЪ‡.

аТФУО¸БУ‚‡ММЫ˛ ТПВ¯Л‚‡˛˘Ы˛ Н‡М˛О˛ УТЪ‡‚ЛЪ¸ М‡ ¯ФЛˆВ ‰У

ОВ‰Ы˛˘В„У ФЛПВМВМЛﬂ ‚ Н‡˜ВТЪ‚В Б‡Н˚‚‡˛˘В„У НУОФ‡˜Н‡!

ëÓ‚ÂÚ

– èÓ ÔË˜ËÌÂ ·ÓÎ¸¯Ó„Ó ÍÓÎË˜ÂÒÚ‚‡ ‚ÎËﬂ˛˘Ëı Ù‡ÍÚÓÓ‚ ÔË ÙËÍÒ‡-

ˆЛЛ ВТЪ‡‚‡ˆЛИ М‡ ‡·‡ЪПВМЪ‡ı ЛПФО‡МЪУ‚ (М‡ФЛПВ, ‚˚ТУЪ‡ ‡·‡ЪПВМЪ‡ Л В„У ЩУП‡, ТУТЪУﬂМЛВ ФУ‚ВıМУТЪЛ, ФУТ‡‰Н‡ ВТЪ‡‚‡ˆЛЛ Л Ъ.‰). ВТЪ¸ ‚ВУﬂЪМУТЪ¸ ФВК‰В‚ВПВММУИ ‡Б„ВПВЪЛБ‡ˆЛЛ ВТЪ‡‚‡ˆЛЛ ЛОЛ ТОЛ¯НУП ТЛО¸МУ„У ТˆВФОВМЛﬂ ПВК‰Ы ‡·‡ЪПВМЪУП Л ВТЪ‡‚‡ˆЛВИ.

иЛ ФВК‰В‚ВПВММУИ ‡Б„ВПВЪЛБ‡ˆЛЛ ТЛОЫ ТˆВФОВМЛﬂ ПУКМУ Ы‚ВОЛ˜ЛЪ¸ ФУ‚˚¯ВМЛВП ¯ВУıУ‚‡ЪУТЪЛ ФУ‚ВıМУТЪВИ ВТЪ‡‚‡ˆЛЛ Л ‡·‡ЪПВМЪ‡. й·‡·УЪН‡ ‡·‡ЪПВМЪ‡ ‰УОКМ‡ ФУТЪУﬂММУ ФУ‚У‰ЛЪ¸Тﬂ ˝НТЪ‡У‡О¸МУ.

éÍÒË‰ ˆËÍÓÌËﬂ

иВТНУТЪЫИМ‡ﬂ У·‡·УЪН‡ ФУ‚ВıМУТЪЛ (Ф‡‡ПВЪ˚ У·‡·УЪНЛ ‚ ТУУЪ‚ВЪТЪ‚ЛЛ Т ‰‡ММ˚ПЛ ФУЛБ‚У‰ЛЪВОﬂ).

еВЪ‡ОО ЛОЛ ВТЪ‡‚‡ˆЛЛ М‡ ПВЪ‡ООЛ˜ВТНУП Н‡Н‡ТВ

иВТНУТЪЫИМ‡ﬂ У·‡·УЪН‡ ФУ‚ВıМУТЪЛ (Ф‡‡ПВЪ˚ У·‡·УЪНЛ ‚ ТУУЪ‚ВЪТЪ‚ЛЛ Т ‰‡ММ˚ПЛ ФУЛБ‚У‰ЛЪВОﬂ) ‰У ЪВı ФУ, ФУН‡ МВ ·Ы‰ВЪ ‰УТЪЛ„МЫЪ‡ ‡‚МУПВМУ П‡ЪУ‚‡ﬂ ФУ‚ВıМУТЪ¸.

кВТЪ‡‚‡ˆЛЛ М‡ НУПФУБЛЪМУИ УТМУ‚В (Telio Lab / Telio CAD)

иВТНУТЪЫИМ‡ﬂ У·‡·УЪН‡ ‚МЫЪВММВИ ФУ‚ВıМУТЪЛ ВТЪ‡‚‡ˆЛЛ (Ф‡‡ПВЪ˚ У·‡·УЪНЛ ‚ ТУУЪ‚ВЪТЪ‚ЛЛ Т ‰‡ММ˚ПЛ ФУЛБ‚У‰ЛЪВОﬂ. иЛ ‡·УЪВ Т Telio Lab / Telio CAD ‰‡‚ОВМЛВ 1 – 2 ·‡‡, ФВТУН Al 100 ПНП).

иУТОВ У·‡·УЪНЛ ФУ‚ВıМУТЪЛ ВТЪ‡‚‡ˆЛ˛ Л ‡·‡ЪПВМЪ˚ Ъ˘‡ЪВО¸МУ ФУП˚Ъ¸ ‚У‰ﬂМ˚П ТФВВП Л ‚˚ТЫ¯ЛЪ¸ ‚УБ‰ЫıУП ·ВБ ФЛПВТВИ П‡ТО‡. иЛ МВУ·ıУ‰ЛПУТЪЛ ФУ‚ВТЪЛ У˜ЛТЪНЫ ‚ ЫО¸Ъ‡Б‚ЫНУ‚УИ ‚‡ММВ, ФЛПВМУ 1 ПЛМ.

– ЦТОЛ ВТЪ‡‚‡ˆЛ˛ МВ‚УБПУКМУ Ы‰‡ОЛЪ¸ У·˚˜М˚ПЛ ТВ‰ТЪ‚‡ПЛ,

‰УТЪЫФ Н ‚ЛМЪУ‚УПЫ Н‡М‡ОЫ УТЫ˘ВТЪ‚ОﬂВЪТﬂ ФЫЪВП ЪВФ‡М‡ˆЛЛ.

– ÖÒÎË Ï‡ÚÂË‡Î Telio CS Cem Implant ËÁ‚ÎÂÍ‡ÂÚÒﬂ ·ÂÁ ÒÏÂ¯Ë‚‡˛˘ÂÈ

Н‡М˛ОЛ, ˝ЪУ ПУКВЪ ФЛ‚ВТЪЛ Н ФВВНВТЪМУИ ЛМЩВНˆЛЛ.

– Telio CS Cem Implant, Н‡Н Л ‚ТВ УТЪ‡О¸М˚В НУПФУБЛЪ˚, ФУ‰ОВКЛЪ

НЛТОУУ‰МУПЫ ЛМ„Л·ЛУ‚‡МЛ˛. иУ˝ЪУПЫ ТПВ¯Л‚‡МЛВ В„У М‡ ·ОУНВ ‚МВ ФУОУТЪЛ Ъ‡ Ф‡ˆЛВМЪ‡ ЛТНО˛˜‡ВЪ В„У ФУТОВ‰Ы˛˘Ы˛ ЛМЪ‡У‡О¸МЫ˛ ФУОЛПВЛБ‡ˆЛ˛.

еВ˚ ФВ‰УТЪУУКМУТЪЛ

– аБ·В„‡Ъ¸ НУМЪ‡НЪ‡ МВТФУОЛПВЛБУ‚‡ММУ„У П‡ЪВЛ‡О‡ Т НУКВИ, ТОЛ-

БЛТЪУИ У·УОУ˜НУИ Л „О‡Б‡ПЛ. З МВУЪ‚ВК‰ВММУП ТУТЪУﬂМЛЛ Telio CS Cem Implant УН‡Б˚‚‡ВЪ ОВ„НУВ ‡Б‰‡К‡˛˘ВВ ‰ВИТЪ‚ЛВ, ‡ ФУ‚ЪУМ˚И НУМЪ‡НЪ Т НУКВИ ‚ В‰НЛı ТОЫ˜‡ﬂı ПУКВЪ ФЛ‚ВТЪЛ Н ФУﬂ‚ОВМЛ˛ ˜Ы‚ТЪ‚ЛЪВО¸МУТЪЛ.

– й·˚˜М˚В ПВ‰ЛˆЛМТНЛВ ФВ˜‡ЪНЛ МВ ﬂ‚Оﬂ˛ЪТﬂ Б‡˘ЛЪУИ УЪ ˜Ы‚ТЪ‚Л-

ЪВО¸МУТЪЛ М‡ ПВЪ‡НЛО‡Ъ˚.

ê‡·Ó˜ÂÂ ‚ÂÏﬂ

иЛ НУПМ‡ЪМУИ ЪВПФВ‡ЪЫВ (23 °C) ФЛПВМУ 2,5 – 3 ПЛМЫЪ˚, ЛМЪ‡У‡О¸МУ ФЛ ЪВПФВ‡ЪЫВ ЪВО‡ (37 °C) ФЛПВМУ 1.5 – 2 ПЛМЫЪ˚.

ЗВПﬂ ФУОЛПВЛБ‡ˆЛЛ

Т‡ПУУЪ‚ВК‰ВМЛВ: ФЛ ЪВПФВ‡ЪЫВ ЪВО‡ (37 °C) ФЛПВМУ 3 ПЛМЫЪ˚ йТ‚В˘ВМЛВ ФУОЛПВЛБ‡ˆЛУММУИ О‡ПФУИ ЫТНУﬂВЪ ФУˆВТТ УЪ‚ВК‰ВМЛﬂ.

ìÒÎÓ‚Ëﬂ ı‡ÌÂÌËﬂ

– ‰ОЛЪВО¸МУТЪ¸ ı‡МВМЛﬂ – ТУН „У‰МУТЪЛ ТП. М‡ ˝ЪЛНВЪНВ / ЫФ‡НУ‚НВ – ФУ ЛТЪВ˜ВМЛЛ ТУН‡ „У‰МУТЪЛ ЛТФУО¸БУ‚‡Ъ¸ МВО¸Бﬂ. – ЪВПФВ‡ЪЫ‡ ı‡МВМЛﬂ 2 – 8 °C – У·‡·‡Ъ˚‚‡Ъ¸ ЪУО¸НУ ФЛ НУПМ‡ЪМУИ ЪВПФВ‡ЪЫВ (УıО‡К‰ВММ˚И

П‡ЪВЛ‡О ·УОВВ ‚ﬂБНЛИ Л Тı‚‡Ъ˚‚‡ВЪТﬂ ПВ‰ОВММВВ).

п‡МЛЪ¸ ‚ ПВТЪВ, МВ‰УТЪЫФМУП ‰Оﬂ ‰ВЪВИ! СОﬂ ЛТФУО¸БУ‚‡МЛﬂ ЪУО¸НУ ‚ ТЪУП‡ЪУОУ„ЛЛ!

Ñ‡Ú‡ ÒÓÒÚ‡‚ÎÂÌËﬂ ËÌÒÚÛÍˆËË:

09/2011, Rev 0

àÁ„ÓÚÓ‚ËÚÂÎ¸:

Ivoclar Vivadent AG, FL-9494 ò‡‡Ì/ãËıÚÂÌ¯ÚÂÈÌ

иУ‰ЫНЪ ·˚О ‡Б‡·УЪ‡М ‰Оﬂ ФЛПВМВМЛﬂ ‚ ТЪУП‡ЪУОУ„ЛЛ Л ФУ‰ОВКЛЪ ЛТФУО¸БУ‚‡МЛ˛ ЪУО¸НУ ‚ ТУУЪ‚ВЪТЪ‚ЛЛ Т ЛМТЪЫНˆЛВИ ФУ ФЛПВМВМЛ˛. иУЛБ‚У‰ЛЪВО¸ МВ МВТВЪ УЪ‚ВЪТЪ‚ВММУТЪЛ Б‡ ФЛПВМВ-

2O3

МЛВ ‚ ЛМ˚ı ˆВОﬂı ЛОЛ ЛТФУО¸БУ‚‡МЛВ, МВ ТУУЪ‚ВЪТЪ‚Ы˛˘ВВ ЛМТЪЫНˆЛЛ. дУПВ ЪУ„У, ФУЪВ·ЛЪВО¸ У·ﬂБ‡М ФУ‰ Т‚У˛ УЪ‚ВЪТЪ‚ВММУТЪ¸ ФУ‚ВЛЪ¸ ФУ‰ЫНЪ ФВВ‰ В„У ЛТФУО¸БУ‚‡МЛВП М‡ ТУУЪ‚ВЪТЪ‚ЛВ Л ‚УБПУКМУТЪ¸ ФЛПВМВМЛﬂ ‰Оﬂ ФУТЪ‡‚ОВММ˚ı ˆВОВИ, ВТОЛ ˝ЪЛ ˆВОЛ МВ ЫН‡Б‡М˚ ‚ ЛМТЪЫНˆЛЛ ФУ ЛТФУО¸БУ‚‡МЛ˛.

Telio®CS Cem Implant

Polski

Instrukcja stosowania

Opis materiału

CS Cem Implant jest chemoutwardzalnym nieprzepuszczajàcym

Telio promieni rtg, cementem kompozytowym, z opcjà polimeryzacji Êwietlnej, przeznaczonym do estetycznego, długotrwałego czasowego cementowania uzupełnieƒ protetycznych na łàcznikach implantów. Mo˝e byç przeznaczony do cementowania koron i mostów, uzupełnieƒ na podbudowie metalowej (np. Telio LAB), całoceramicznych (np. Telio CAD) jak równie˝ z tlenku cyrkonu. Telio CS Cem Implant stosowany jest do cementowania czasowych, długotrwałych (6 miesi´cy lub wi´cej), uzupełnieƒ protetycznych.

Kolory

Opakerowy (nieprzezroczysty), Transparentny

Skład

Telio CS Cem Implant składa si´ z dimetakrylanu ( ok. 52% wag.) oraz wypełniaczy ( ok. 46% wag.). Dodatkowymi składnikami sà: inicjatory, stabilizatory, barwniki i Êrodki pomocnicze.

Wskazania

Materiał Telio CS Cem Implant jest przeznaczony do czasowego, długotrwałego cementowania stałych uzupełnieƒ protetycznych na łàcznikach implantów.

Przeciwwskazania

Materiału nie nale˝y stosowaç w przypadku nadwra˝liwoÊci pacjenta na którykolwiek ze składników materiału Telio CS Cem Implant – cementowania uzupełnieƒ opartych na własnych filarach z´bów, – nieodpowiedniego kształtu łàcznika implantu, – Łàcznik implantu powinien charakteryzowaç si´ nast´pujàcymi cechami :

– Opracowane Êciany nie powinny byç do siebie równoległe. – Powinien mieç tradycyjny kształt retencyjny.

Działania niepo˝àdane

Składniki materiału mogà w rzadkich przypadkach powodowaç reakcje nadwra˝liwoÊci. W takich przypadkach nale˝y zrezygnowaç ze stosowania materiału.

Interakcje

Substancje fenolowe (np. eugenol) hamujà polimeryzacj´. Dlatego nale˝y unikaç stosowania matetriałów zawierajàcych tego typu komponenty.

Stosowanie

1. Odkr´ciç nakretk´ od obu pojemników strzykawki poprzez obrót o ¼ ruchem przeciwnym do ruchu wskazówek zegara i zamieniç jà na kaniul´ do mieszania. Ka˝dorazowo przed nast´pnym u˝yciem zastosowaç nowà kaniul´ do mieszania. Nakretk´ wyrzuciç, nie

u˝ywaç ponownie !

2. Przy zakładaniu kaniuli mieszajàcej nale˝y zwracaç uwag´, aby wskazania na miarce strzykawki z podwójnym pojemnikiem oraz kaniuli mieszajàcej były takie same. Kaniul´ nale˝y przy tym całkowicie przesunàç ku dołowi, aby naci´cia na pojemnikach strzykawki i na kaniuli do mieszania pokryły si´. Uchwyciç kolorowà baz´ i zamocowaç kaniul´ mieszajàcà. Zabezpieczyç kaniul´ mieszajàcà przez pokr´cenie jej o ¼, zgodnie z ruchem wskazówek zegara Pasty bazy i katalizatora, znajdujàce si´ w podwójnym pojemniku, sà przy wyciskaniu odpowiednio dozowane, a w kaniuli mieszajàcej zostajà dokładnie zmieszane. W tej postaci Telio CS Cem Implant mo˝e byç zastosowany bezpoÊrednio na cementowane uzupełnienie protetyczne.

3. Telio CS Cem Implant powinien byç stosowany na czyste i suche powierzchnie cementowanych uzupełnieƒ. Powierzchnie nie powinny byç zanieczyszczone olejem i kurzem. Czas pracy przy temperaturze pokojowej (23°C) wynosi ok. 2,5, do 3 minut.

4. Osadzenie uzupełnienia i usuwanie nadmiarów cementu:

UmieÊciç uzupełnienie na filarze, lekko dociskajàc. Usuwanie nadmiaru materiału mo˝e nast´powaç na ró˝ne sposoby:

4a) Usuni´cie poprzez dodatkowà polimeryzacj´ (technika ¼)

Poprzez polimeryzacj´ Êwiatłem lampy np. bluephase (o nat´˝eniu ok. 650 mW/cm², program LOW) przez 2 – 4 sekundy oddzielnie na jednà czwartà powierzchni ka˝dej cementowanej korony od powierzchni mezjalnej oraz dystalnej – zarówno od strony przedsionka jamy ustnej, jak i od strony policzka. Koƒcówk´ Êwiatłowodu nale˝y trzymaç w odległoÊci 0 – 10 mm od powierzchni z´ba. Nadmiar materiału mo˝na w tym przypadku w łatwy sposób usunàç za pomocà skalera implantologicznego, ze wzgl´du na jego plastycznà konsystencj´. Nast´pnie nale˝y ponownie naÊwietlaç brzegi uzupełnienia przez 10 sekund lampà polimeryzacyjnà bluephase (nat´˝enie ok.1000 mW/cm², program HIGH). W celu unikni´cia powstania warstwy inhibicyjnej, zalecane jest zastosowanie ˝elu glicerynowego (n.p. Liquid Strip).

4b) Usuwanie nadmiarów w postaci nie spolimeryzowanej

Nadmiary usunàç natychmiast po cementowaniu, za pomocà aplikatora typu „microbrush”, p´dzelka, gàbki, nici dentystycznej lub skalera implantologicznego. W tym czasie zachodzi proces polimeryzacji czysto chemicznej (ok. 2 minut), która opcjonalnie mo˝e byç przyspieszona poprzez polimeryzacj´ Êwiatłem lampy przez 10 sekund na ka˝dà powierzchni´ (>1000 mW/cm², np. bluephase program HIGH)

4c) Usuni´cie spolimeryzowanych nadmiarów

Nadmiary cementu po ok. 3 minutach starannie usunàç za pomocà skalera implantologicznego lub innych odpowiednich narz´dzi.

U˝ytà kaniul´ mieszajàcà zastosowaç jako zamkni´cie strzykawki a˝ do nast´pnego u˝ycia materiału.

Wskazówki

– Z powodu rozmaitych czynników, majàcych wpływ na cementowanie

uzupełnieƒ na łàcznikach implantów (np. wysokoÊç i geometria łàczników, ukształtowanie powierzchni, dopasowanie uzupełnieƒ itp.) mo˝e dojÊç do przedwczesnego odcementowania, bàdê do zbyt mocnego zwiàzania łàcznika implantu z uzupełnieniem protetycznym.

W przypadku odcementowania nale˝y uzyskaç popraw´ wiàzania poprzez schropowacenie uzupełnienia i łàcznika implantu. Opracowanie łàcznika implantu powinno byç dokonywane zawsze poza jamà ustnà.

Tlenek cyrkonu

Wypiaskowaç powierzchnie zewn´trzne, zgodnie z zaleceniami producenta.

Uzupełnienie na metalu lub na podbudowie metalowej

Wypiaskowaç powierzchnie zewn´trzne uzupełnienia protetycznego zgodnie z zaleceniami producenta do momentu, a˝ powierzchnie stanà si´ jednakowo matowe.

Uzupełnienia na podbudowie z materiałów zło˝onych (Telio Lab i Telio CAD)

Wypiaskowaç powierzchnie wewn´trzne, zgodnie z zaleceniami producenta. W przypadku Telio Lab/Telio CAD 1 – 2 bar, 100µm Al

Po opracowaniu powierzchni uzupełnieƒ i łàczników implantów, zawsze dokładnie opłukaç je wodà i wysuszyç powietrzem wolnym od oleju. W danym przypadku przeprowadziç oczyszczanie ultradêwi´kami przez ok. 1 minut´.

– JeÊli uzupełnienie nie mo˝e byç usuni´te w konwencjonalny sposób,

to dojÊcie do kanału Êruby łàcznika nast´puje poprzez trepanacj´.

– W przypadku jeÊli dozowanie materiału nast´puje bez kaniuli

mieszajàcej, mo˝e dojÊç do zanieczyszczenia krzy˝owego Telio CS Cem Implant.

– Materiał Telio CS Cem Implant, tak jak inne materiały zło˝one, podlega

inhibicji tlenowej. Dlatego te˝ mieszanie materiału na papierku do zarabiania materiałów poza jamà ustnà nie jest zalecane. Z tego te˝ wzgl´du, czas wiàzania cementu poza jamà ustnà pacjenta poprzez mieszanie jego składników na papierku do zarabiania materiałów nie mo˝e byç porównywany z czasem wiàzania tego cementu w jamie ustnej pacjenta.

Ostrze˝enia

– Nale˝y unikaç kontaktu nie spolimeryzowanego materiału ze skórà,

błonà Êluzowà lub oczami. Nie spolimeryzowany materiał Telio CS Cem Implant mo˝e mieç lekkie działanie dra˝niàce i w przypadku ponownego kontaktu materiału ze skórà mo˝e powodowaç nadwra˝liwoÊç.

– Tradycyjne r´kawiczki medyczne nie zapewniajà wystarczajàcej ochrony

przed uczulajàcymi właÊciwoÊciami metakrylanów.

Czas pracy

W temperaturze pokojowej (23 °C) czas pracy materiałem Telio CS Cem Implant wynosi ok. 2,5 do 3 minut. Wewnàtrz jamy ustnej (w temperaturze ok. 37 °C) – ok. 1,5 do 2 minut.

2O3

Czas wiàzania

Samoistnie: przy temperaturze ciała (37 °C) - ok. 3 minuty. NaÊwietlanie lampà polimeryzacyjnà przyspiesza proces wiàzania materiału.

Warunki przechowywania

– Termin wa˝noÊci: patrz data wa˝noÊci na etykiecie i opakowaniu. – Nie stosowaç materiału po upływie terminu wa˝noÊci. – Przechowywaç w temperaturze 2 – 8°C. – Stosowaç tylko w temperaturze pokojowej. Schłodzony materiał jest

bardziej lepki i wolniej wià˝e.

Materiał przechowywaç w miejscu niedost´pnym dla dzieci. Materiał przeznaczony tylko do u˝ytku w stomatologii.

Data opracowania informacji: 09/2011, Rev. 0

Producent

Ivoclar Vivadent AG FL-9494 Schaan / Liechtenstein

Przedstawiciel w Polsce

Ivoclar-Vivadent Polska Sp. z o.o. Al. Jana Pawła II 78 00-175 Warszawa Infolinia: 0 22 817 11 35 E-mail: info@ivoclarvivadent.com.pl

Materiał został przeznaczony wyłàcznie do stosowania w stomatologii. Przy jego stosowaniu nale˝y ÊciÊle przestrzegaç instrukcji u˝ycia. Nie ponosi si´ odpowiedzialnoÊci za szkody powstałe na skutek nieprzestrzegania instrukcji lub stosowania niezgodnie z podanymi w instrukcji wskazaniami. U˝ytkownik odpowiada za testowanie produktu dla swoich własnych celów i za jego u˝ycie w ka˝dym innym przypadku nie wyszczególnionym w instrukcji. Opis produktu i jego skład nie stanowià gwarancji i nie sà wià˝àce.

Ivoclar Vivadent – worldwide

Ivoclar Vivadent AG

Bendererstrasse 2 FL-9494 Schaan Liechtenstein Tel. +423 235 35 35 Fax +423 235 33 60 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent Pty. Ltd.

1 – 5 Overseas Drive P.O. Box 367 Noble Park, Vic. 3174 Australia Tel. +61 3 979 595 99 Fax +61 3 979 596 45 www.ivoclarvivadent.com.au

Ivoclar Vivadent GmbH

Bremschlstr. 16 Postfach 223 A-6706 Bürs Austria Tel. +43 5552 624 49 Fax +43 5552 675 15 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent Ltda.

Rua Geraldo Flausino Gomes, 78 – 6.º andar Cjs. 61/62 Bairro: Brooklin Novo CEP: 04575-060 São Paulo – SP Brazil Tel. +55 11 3466 0800 Fax +55 11 3466 0840 www.ivoclarvivadent.com.br

Ivoclar Vivadent Inc.

2785 Skymark Avenue, Unit 1 Mississauga Ontario L4W 4Y3 Canada Tel. +1 905 238 5700 Fax +1 905 238 5711 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent Marketing Ltd.

Rm 603 Kuen Yang International Business Plaza No. 798 Zhao Jia Bang Road Shanghai 200030 China Tel. +86 21 5456 0776 Fax +86 21 6445 1561 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent Marketing Ltd.

Calle 134 No. 7-B-83, Of. 520 Bogotá Colombia Tel. +57 1 627 33 99 Fax +57 1 633 16 63 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent SAS

B.P. 118 F-74410 Saint-Jorioz France Tel. +33 450 88 64 00 Fax +33 450 68 91 52 www.ivoclarvivadent.fr

Ivoclar Vivadent GmbH

Dr. Adolf-Schneider-Str. 2 D-73479 Ellwangen, Jagst Germany Tel. +49 (0) 79 61 / 8 89-0 Fax +49 (0) 79 61 / 63 26 www.ivoclarvivadent.de

Ivoclar Vivadent Marketing Ltd. (Liaison Office)

503/504 Raheja Plaza 15 B Shah Industrial Estate Veera Desai Road, Andheri (West) Mumbai, 400 053 India Tel. +91 (22) 2673 0302 Fax +91 (22) 2673 0301 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent s.r.l. & C. s.a.s

Via Gustav Flora, 32 39025 Naturno (BZ) Italy Tel. +39 0473 67 01 11 Fax +39 0473 66 77 80 www.ivoclarvivadent.it

Ivoclar Vivadent K.K.

1-28-24-4F Hongo Bunkyo-ku Tokyo 113-0033 Japan Tel. +81 3 6903 3535 Fax +81 3 5844 3657 www.ivoclarvivadent.jp

Ivoclar Vivadent S.A. de C.V.

Av. Insurgentes Sur No. 863 Piso 14, Col. Napoles 03810 México, D.F. México Tel. +52 (55) 50 62 10 00 Fax +52 (55) 50 62 10 29 www.ivoclarvivadent.com.mx

Ivoclar Vivadent Ltd.

12 Omega St, Albany PO Box 5243 Wellesley St Auckland, New Zealand Tel. +64 9 914 9999 Fax +64 9 814 9990 www.ivoclarvivadent.co.nz

Ivoclar Vivadent Polska Sp. z o.o.

Al. Jana Pawla II 78 00-175 Warszawa Poland Tel. +48 22 635 54 96 Fax +48 22 635 54 69 www.ivoclarvivadent.pl

Ivoclar Vivadent Marketing Ltd.

Derbenevskaja Nabereshnaya 11, Geb. W 115114 Moscow Russia Tel. +7 495 913 66 19 Fax +7 495 913 66 15 www.ivoclarvivadent.ru

Ivoclar Vivadent Marketing Ltd.

171 Chin Swee Road #02-01 San Centre Singapore 169877 Tel. +65 6535 6775 Fax +65 6535 4991 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent S.L.U.

c/ Emilio Muñoz Nº 15 Entrada c/ Albarracin E-28037 Madrid Spain Tel. + 34 91 375 78 20 Fax + 34 91 375 78 38 www.ivoclarvivadent.es

Ivoclar Vivadent AB

Dalvägen 14 S-169 56 Solna Sweden Tel. +46 (0) 8 514 93 930 Fax +46 (0) 8 514 93 940 www.ivoclarvivadent.se

Ivoclar Vivadent Liaison Office

Ahi Evran Caddesi No 1 Polaris Is Merkezi Kat: 7 80670 Maslak Istanbul Turkey Tel. +90 212 346 04 04 Fax +90 212 346 04 24 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent Limited

Ground Floor Compass Building Feldspar Close Warrens Business Park Enderby Leicester LE19 4SE United Kingdom Tel. +44 116 284 78 80 Fax +44 116 284 78 81 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent, Inc.

175 Pineview Drive Amherst, N.Y. 14228 USA Tel. +1 800 533 6825 Fax +1 716 691 2285 www.ivoclarvivadent.com

Ivoclar Vivadent Telio CS Cem Implant User Manual [en, de, fr, it, es, pl]

Specifications and Main Features

Frequently Asked Questions

User Manual

English

Deutsch

Français

Italiano

Español

Português

Svenska

Dansk

Suomi

Norsk

Nederlands

Ελληνικά

Türkçe

Polski